湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務。

離子滲氮是在真空室內(nèi)進行的，工件接高壓直流電源的負極，真空鐘單接正極。將真空室的真空度抽到66.67Pa后，充人少量氮氣或氫氣、氮氣的混合氣體。當電壓調(diào)整到400~800V時，氮即電離分解成氮離子、氫離子和電子，并在工件表面產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象。而在陰極輝區(qū)，電子已獲得足夠的能量碰撞氣體分子，使之電離或激發(fā)發(fā)光。正離子受電場作用加速轟擊工件表面，使工件升溫到滲氮溫度。氮離子在鋼件表面獲得電子，還原成氮原子而滲人鋼件表面并向內(nèi)部擴散，形成滲氮層。

輝光放電進行滲氮的工藝，與氣體滲氮相比滲入速度快。由于離子氮化法利用了離子化了的氣體的濺射作用，因而可顯著地縮短處理時間(離子滲氮的時間僅為普通氣體滲氮時間的1/3~1/5)。

在射頻輝光放電空間中，高頻電子震蕩已能產(chǎn)生足夠的工作氣體電離，對二次電子發(fā)射的依耐性減少了。該輝光離子滲氮爐包括內(nèi)隔熱屏，在內(nèi)隔熱屏內(nèi)壁上裝有發(fā)熱體，發(fā)熱體與電極間采用螺栓聯(lián)接，發(fā)熱體與內(nèi)壁由陶瓷絕緣體隔離絕緣，絕緣體由螺栓固定在隔熱屏內(nèi)壁上。射頻磁控濺射氣體放電時等離子阻抗低，工作氣體擊穿點火電壓和維持異常輝光放電電壓比中頻靶電源時又要降低很多(點火電壓只有直流放電等離子輝光放電時的五分之一~八分之一)。??

次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現(xiàn)均勻的霧狀放電；裝爐有嚴格要求，裝爐不妥或形狀不同、大小不同的零件混裝爐容易出現(xiàn)滲層不均勻等疵病，造成廢品或返修。放電時電極兩端的電壓低而功率密度大；處理紡織品和碳纖維等材料時不會出現(xiàn)擊穿和燃燒并且處理溫度接近室溫。次大氣壓輝光放電技術(shù)目前可用于低溫材料、生物材料、異型材料的表面親水處理和表面接枝、表面聚合、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成等工藝。由于是在次大氣壓條件下的輝光放電，處理環(huán)境的氣氛濃度高，電子和離子的能量可達10eV以上。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。 可處理金屬、非金屬、（碳）纖維、金屬纖維、微粒、粉末等。