ICP光譜儀購(gòu)買(mǎi)時(shí)用注意什么？

ICP光譜儀購(gòu)買(mǎi)時(shí)用注意什么？我們接下來(lái)就來(lái)簡(jiǎn)單的了解一下。

一、穩(wěn)定性,分析儀器的就是穩(wěn)定性,ICP在每次分析前都要進(jìn)標(biāo)樣,所以檢測(cè)結(jié)果一般與真值偏差都不打,關(guān)鍵是同類(lèi)樣品是否在每次分析出來(lái)之后結(jié)果是否一致,如果忽高忽低你知道那個(gè)樣品是合格的

二、分析速度,如果是全譜的機(jī)器,一般72個(gè)元素/分鐘,如果是掃描型的,速度要慢.現(xiàn)在除了一些特殊行業(yè)還在用掃描型的,其他的都是全譜了.不是說(shuō)掃描型不好,只是技術(shù)比較陳舊,容易被淘汰.

三、波長(zhǎng)范圍,是否能覆蓋你所要檢測(cè)所有元素的譜線(xiàn)范圍

四、光學(xué)分辨率（200nm處）,理論上來(lái)說(shuō)分辨率越高越好,當(dāng)然還看你的樣品情況

五、故障率,這個(gè)不用多說(shuō)了,天天壞那就沒(méi)法用了

六、售后服務(wù),沒(méi)有永遠(yuǎn)不壞的機(jī)器,售后服務(wù)的好壞也很重要。

ICP光譜儀是什么構(gòu)成的？

一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分：

1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。

2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線(xiàn)變?yōu)槠叫泄狻Ｔ摐?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號(hào)在空間上按波長(zhǎng)分散成為多條光束。

4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長(zhǎng)。

5. 探測(cè)器陣列：放置于焦平面，用于測(cè)量各波長(zhǎng)像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測(cè)器陣列可以是CCD陣列或其它種類(lèi)的光探測(cè)器陣列。

ICP光譜儀的目標(biāo)元素

ICP光譜儀是上世紀(jì)60年代提出、70年代迅速發(fā)展起來(lái)的，它的迅速發(fā)展和廣泛應(yīng)用是與其克服了經(jīng)典光源和原子化器的局限性分不開(kāi)的，那么ICP光譜儀的目標(biāo)元素都有哪些呢？下面小編就來(lái)介紹一下：

ICP光譜儀軟質(zhì)樣品（例如：銅、鋁、鋅、鉛）必須車(chē)削表面或用酒精濕磨.磨好的表面一定不要玷污（例如用手觸摸）.考慮到金屬熱漲冷縮效應(yīng),會(huì)影響光線(xiàn)穩(wěn)定性.溫度變化會(huì)影響儀器的熱平衡,對(duì)和一些電器件會(huì)造成不穩(wěn)定,若溫差較大對(duì)光路也會(huì)有影響.

ICP光譜儀對(duì)于鋼和鑄鐵（顆粒大小,對(duì)鋼是60到80之間,對(duì)鑄鐵是40到60之間）,建議用適合于本儀器樣品的砂紙干磨.砂紙一定不要被高合金含量的樣品污染（例如：應(yīng)該先用于低合金樣品，再用于高合金樣品）.樣品必須在清潔的、規(guī)范的砂紙上磨（沒(méi)有先前激發(fā)處理留下的激發(fā)的痕跡）.樣品表面不能被拋光（適時(shí)更新用過(guò)的砂紙）.必須確保樣品在磨的過(guò)程中沒(méi)有過(guò)熱（樣品應(yīng)該與砂紙只有短暫的接觸）。當(dāng)看到溶液段將吸不吸時(shí)，先停止旋動(dòng)旋鈕，接著在它上面做個(gè)刻度記號(hào)，后再擰多一圈半，這樣就調(diào)好了。如果需要，樣品應(yīng)該用水冷卻，再干燥，再盡可能短的時(shí)間干磨.

ICP光譜儀可用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“真實(shí)濃度”與分析線(xiàn)對(duì)和強(qiáng)度比（R）擬合工作曲線(xiàn)（校準(zhǔn)曲線(xiàn)）。如果鐵含量變化過(guò)大，如高、中合金鋼，其影響不可忽略，需要用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“相對(duì)濃度”（或“濃度比”）與分析線(xiàn)對(duì)和強(qiáng)度比（R）擬合工作曲線(xiàn)，這就是我國(guó)光譜分析的前輩講的“誘導(dǎo)含量法”。如果希望用同一工作曲線(xiàn)同時(shí)分析高、中、低合金鋼，那就都要用“相對(duì)濃度”來(lái)校正基體含量的影響。更進(jìn)一步，如果既要校正基體含量的影響，又要校正共存元素的干擾，就應(yīng)該用“表觀濃度”來(lái)擬合工作曲線(xiàn)。③如果排風(fēng)系統(tǒng)排風(fēng)不暢或不連續(xù)，等離子炬區(qū)域的熱量無(wú)法及時(shí)排除，出現(xiàn)積聚，影響等離子炬的穩(wěn)定，也會(huì)造成等離子炬熄火。

ICP光譜儀雖然本身測(cè)量準(zhǔn)確度很高，但測(cè)定試樣中元素含量時(shí)， 所得結(jié)果與真實(shí)含量通常不一致，存在一定誤差，并且受諸多因素的影響，有的材料本身含量就很低。