不銹鋼蝕刻標牌

不銹鋼蝕刻標牌擁有外觀漂亮，視覺效果好，成本低（不用開模）的優(yōu)點，廣泛應用于各類標示，商標展示等。下面僅展示的幾個樣品。我司自成立以來，蝕刻標牌一直是我司的重點業(yè)務，生產(chǎn)過的標牌樣式不計其數(shù)，服務于多家大型外資企業(yè)，光是蝕刻標牌類業(yè)務一項，年銷售額達三千萬。大約3分鐘后，咱們可在出料口拿到試刻的不銹鋼板，用手試摸一下蝕刻的深淺程度,若是手指上感到有點凹凸的覺得，這時的深度在大概在0。蝕刻生產(chǎn)的不銹鋼標牌還可以制作出特殊的蝕刻紋理效果（如：磨砂紋，皮革紋，斜布紋，龜裂紋等任意花紋），無連接點蝕刻，半蝕刻，8K鏡面效果，拉絲面板效果。可蝕刻加工的材料也可以是銅板，鋁板，鎳合金，鎂鋁合金，SPCC冷軋鋼板。

金屬標牌蝕刻突破瓶頸的新模式

　金屬標牌蝕刻是一種全新的蝕刻工藝，標牌顧名思義大家都知道是什么，金屬標牌所選用的材料一般為鋁、銅、不銹鋼板。而鋁所選用的鋁版一般為拉絲鋁板，擁有精致的線條紋路，使印刷出來的鋁牌顯得十分的精巧、美觀。而輕，柔，美就是鋁牌的特點。所以﹐采用無銅的添加液來漂洗板子(第二次噴淋操作的方法)﹐可大大地減少銅的排出量。這種鋁表面還有一層保護膜保護好鋁牌不被刮花。蝕刻就是在它的上面進行加工，一起來看看金屬標牌蝕刻突破瓶頸的模式吧！

突破性的蝕刻技術實現(xiàn)原子級的蝕刻精準性，從而推動摩爾定律發(fā)展；主要用做研究實驗機，或者簡單的在金屬上蝕刻標記，也稱為電打標。隨著芯片結構日益精細，選擇性工藝可在不損傷芯片的前提下清除不需要的材料；該系統(tǒng)已獲得芯片制造商青睞，用于生產(chǎn)先進FinFET和存儲芯片生產(chǎn)先進芯片的一個重要壁壘是在一個多層結構芯片中有選擇性地清除某一特定材料，而不破壞其他材料是我們在蝕刻領域中的又一大創(chuàng)新，豐富了我們的差異化產(chǎn)品線，通過實現(xiàn)選擇性清除工藝，推動了摩爾定律發(fā)展，創(chuàng)造了新的市場機遇。

隨著先進微型芯片的結構日益復雜，其深而窄的溝槽為芯片制造帶來了全新的挑戰(zhàn)，例如濕性化學成分無法穿透微小結構，或是無法在不損傷芯片的前提下清除不需要的物質。Selectra系統(tǒng)的革命性工藝可進入極狹小的空間，從而實現(xiàn)的選擇性材料清除和原子級的蝕刻精準性，適用于各類電介質、金屬和半導體薄膜。金屬標牌蝕刻突破瓶頸的新模式金屬標牌蝕刻是一種全新的蝕刻工藝，標牌顧名思義大家都知道是什么，金屬標牌所選用的材料一般為鋁、銅、不銹鋼板。其廣泛的工藝范圍以及控制無殘留物和無損傷材料清除的能力，顯著擴大了蝕刻技術的應用范圍，可用于圖案化、邏輯、代工、3DNAND及DRAM等關鍵蝕刻應用。憑借Selectra系統(tǒng)的豐富功能，芯片制造商能夠生產(chǎn)出先進的3D設備，并探索新的芯片結構、材料和集成技術。

有時 較劇烈的振顫都有可能損傷銅箔。 5. 減少污染的問題 銅對水的污染是印制電路生產(chǎn)中普遍存在的問題﹐而氨堿蝕刻液的使用更加重了這 個問題。 因為銅與氨絡合﹐不容易用離子交換法或堿沈淀法除去。 所以﹐采用無銅的添加 液來漂洗板子(第二次噴淋操作的方法)﹐可大大地減少銅的排出量。其廣泛的工藝范圍以及控制無殘留物和無損傷材料清除的能力，顯著擴大了蝕刻技術的應用范圍，可用于圖案化、邏輯、代工、3DNAND及DRAM等關鍵蝕刻應用。 然后﹐再用空氣刀在 水漂洗之前將板面上多余的溶液去除﹐從而減輕了水對銅的蝕刻的鹽類的漂洗負擔。 在自動蝕刻系統(tǒng)中, 銅濃度是以比重來控制的。 在印制板的蝕刻過程中﹐隨著銅不 斷地被溶解﹐當溶解的比重不斷升高至超過一定的數(shù)值時﹐系統(tǒng)便會自動補加氯化銨和氨 的水溶液﹐使比重調整回合適的范圍。

光刻和蝕刻技術，用光膠、掩膜、和紫外光進行微制造，由薄膜沉積，光刻和蝕刻 三個工序組成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜，薄膜的厚度為數(shù)埃到幾十微米，稱為薄膜 沉積。然后在薄膜表面用甩膠機均勻地覆蓋上一層光膠，將掩膜上微流控芯片設計 圖案通過曝光成像的原理轉移到光膠層的工藝過程稱為光刻。 ? 光刻的質量則取決于光抗蝕劑（有正負之分）和光刻掩膜版的質量。2、用不干膠紙需要蝕刻的圖案、文字外，并貼在標牌上，將石蠟的酒精溶液涂覆在不干膠紙條以外的部分，并等酒精揮發(fā)，使石蠟附在標牌上形成了保護膜。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射（如紫外光）時，在圖形區(qū)和非圖形區(qū)產(chǎn)生不同的光吸收和 透過能力。