公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務！

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導體行業(yè)和電路板行業(yè)的發(fā)展影響，與下游終端行業(yè)的主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設備）、筆記本電腦、車載電子、網絡通信、家用電器、LED 照明、物聯網、電子等產品的發(fā)展趨勢密切相關，預計未來幾年我國光掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細化、全產業(yè)鏈方向發(fā)展。下圖是以激光為光源的光刻機簡易工作原理圖：在制造芯片時，首先在晶圓（硅晶片）表面涂光感膠，再用光線透過掩模版（相當于芯片電路圖紙的底片）照射硅片表面，被光線照射到的光感膠會發(fā)生反應。

光掩膜除了應用于芯片制造外，還廣泛的應用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌?，低反射率，低熱膨脹系數的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

業(yè)內又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設計好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應用于對集成電路進行投影定位，通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻，其生產加工工序為：曝光，顯影，去感光膠，后應用于光蝕刻。透鏡：用透鏡的光學原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。

石英巖的原巖可以是：單礦物石英砂巖，含泥質、鈣質石英砂巖，膠體沉積的硅質巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質巖和與火山噴氣有關的硅質巖）和深海蟲硅質巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據結構、變晶程度、副產物、巖石共生組合及產狀等加以區(qū)分。