公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

蝕刻工藝通常稱為版

刻蝕（Etch）是按照掩模圖形或設(shè)計(jì)要求對(duì)半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性刻蝕的技術(shù)，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是與光刻相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝?？涛g分為干法刻蝕和濕法腐蝕。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會(huì)根據(jù)客戶的需求，設(shè)計(jì)刻蝕效果好且性價(jià)比高的刻蝕解決方案。光掩膜有掩膜原版(reticlemask，也有稱為中間掩膜，reticle作為單位譯為光柵)，用步進(jìn)機(jī)重復(fù)將比例縮小到mastermaks上，應(yīng)用到實(shí)際曝光中的為工作掩膜(workingmask)，工作掩膜由mastermask復(fù)i制過來。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

掩膜（MASK）就是指單片機(jī)設(shè)計(jì)掩膜就是指程序流程統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機(jī)設(shè)計(jì)生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進(jìn)來。優(yōu)勢(shì)是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動(dòng)程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長(zhǎng)。掩膜板是光刻圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上:的任何缺陷都會(huì)對(duì)終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學(xué)圖像處理中，掩?？梢允潜∧ぁV光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時(shí)也使用多值圖像。