公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因?yàn)槠涞慕贤饩€穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和電路板行業(yè)的發(fā)展影響，與下游終端行業(yè)的主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、電子等產(chǎn)品的發(fā)展趨勢密切相關(guān)，預(yù)計(jì)未來幾年我國光掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細(xì)化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)。

光學(xué)掩模板的應(yīng)用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個時候的掩膜也可稱為光罩。

準(zhǔn)納光電制作掩膜板，光刻鉻版，設(shè)計(jì)，制作，加工，批量化生產(chǎn) 蝕刻工藝 精度1um 承接掩模板，光刻鉻板，標(biāo)定板，光柵板，分劃板，異型玻璃加工

光刻工藝

是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進(jìn)式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術(shù).

光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)?？瓷先ブ瓢婀に嚥皇翘珡?fù)雜，但要想制作出合格的印版，確實(shí)需要操作人員用心曬版，用心加工印版。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。