公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻版在使用過(guò)程中不可避免的會(huì)粘上灰塵、光刻膠等污染物，這些污染物的存在直接影響到光刻的效果。為了保證光刻版潔凈，必須定期對(duì)光刻版進(jìn)行清洗，而清洗的效果與清洗工藝以及各清洗工藝在設(shè)備上的合理配置有著密切的聯(lián)系。

掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板，通過(guò)曝光過(guò)程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上，用來(lái)制造芯片。

由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對(duì)所提交的版圖文件仔細(xì)核對(duì)，確保圖形正確性。以下將對(duì)用戶較為關(guān)心的版圖繪制問(wèn)題作出具體說(shuō)明。光罩（英文：Reticle,Mask），在制作IC的過(guò)程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型於晶圓上，必須透過(guò)光罩作用的原理，類似于沖洗照片時(shí)，利用底片將影像至相片上。光掩模板或者光罩，曝光過(guò)程中的原始圖形的載體，通過(guò)曝光過(guò)程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。制造芯片時(shí)用.

光刻（英語(yǔ)：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對(duì)氧化層和涂層樹(shù)脂的腐蝕力下降，版材的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。這里所說(shuō)的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。