公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒有經(jīng)過預(yù)置

由于膠片制造時無法預(yù)先控制膠片中的濕度與每個生產(chǎn)車間的濕度一致，因此使用之前應(yīng)先使其與工作環(huán)境達(dá)到平衡的狀況。建議預(yù)置時間為12小時，預(yù)置時必須打開膠片的內(nèi)包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。

在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對掩膜版進(jìn)行清洗。

機(jī)顯時還要注意以下幾點：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。②在顯影之前必須保持各傳動輥清潔，若牽引輥不干凈，顯影時印版易粘上臟點。③如顯影機(jī)有涂膠裝置，一定注意膠輥要保持清潔，否則要弄臟印版。光掩膜是刻有微電路的版，由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成，蝕刻后的殘留鉻部分即為設(shè)計的微電圖。④一般情況下，陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護(hù)膠時，一定要均勻施膠，不能太厚，以免干后導(dǎo)致涂層龜裂和掉版。

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。