公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

蝕刻工藝通常稱為版

刻蝕（Etch）是按照掩模圖形或設(shè)計(jì)要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性刻蝕的技術(shù)，它是半導(dǎo)體制造工藝，微電子IC制造工藝以及微納制造工藝中的一種相當(dāng)重要的步驟。是與光刻相聯(lián)系的圖形化（pattern）處理的一種主要工藝。刻蝕分為干法刻蝕和濕法腐蝕。原位芯片目前掌握多種刻蝕工藝，并會根據(jù)客戶的需求，設(shè)計(jì)刻蝕效果好且性價(jià)比高的刻蝕解決方案。集成電路（英語：integratedcircuit，縮寫：IC。

數(shù)字圖像處理中，圖像掩模主要用于：①提取感興趣區(qū),用預(yù)先制作的感興趣區(qū)掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區(qū)圖像,感興趣區(qū)內(nèi)圖像值保持不變,而區(qū)外圖像值都為0。②屏蔽作用,用掩模對圖像上某些區(qū)域作屏蔽,使其不參加處理或不參加處理參數(shù)的計(jì)算,或僅對屏蔽區(qū)作處理或統(tǒng)計(jì)。③結(jié)構(gòu)特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結(jié)構(gòu)特征。④特殊形狀圖像的制作。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時(shí)生產(chǎn)，供貨周期長。

硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產(chǎn)生的效果是不樣的。硬刮是指離支撐刀片較短，效果反差大，易磨損版輥，對解決版面不干凈會有一點(diǎn)作用。軟刮是指離支撐刀片距離較長點(diǎn)，效果是色調(diào)平緩，易產(chǎn)生灰霧。對于版上淺網(wǎng)部分的轉(zhuǎn)移會有1定的幫助。

掩膜（MASK）就是指單片機(jī)設(shè)計(jì)掩膜就是指程序流程統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機(jī)設(shè)計(jì)生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進(jìn)來。優(yōu)勢是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長。掩膜板是光刻圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學(xué)圖像處理中，掩?？梢允潜∧ぁV光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時(shí)也使用多值圖像。