公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

其中掩膜版圖形數(shù)據(jù)由用戶自行設(shè)計(jì)并提交，后續(xù)加工工藝由工程師完成。由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對(duì)所提交的版圖文件仔細(xì)核對(duì)，確保圖形正確性。以下將對(duì)用戶較為關(guān)心的版圖繪制問(wèn)題作出具體說(shuō)明  。

掩膜版：通俗點(diǎn)理解，相當(dāng)于過(guò)去用膠片沖洗照片時(shí)的底片。底片如果精度不夠，是洗不出來(lái)照片的。光刻機(jī)施工前，要根據(jù)設(shè)計(jì)好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質(zhì)是石英玻璃，玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過(guò)激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。

　　透鏡：用透鏡的光學(xué)原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會(huì)產(chǎn)生光學(xué)誤差。要控制這個(gè)誤差。精度要求很高。

　　就是測(cè)量臺(tái)移動(dòng)的控制器，也是納米級(jí)精度，要求超高。

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過(guò)類似照相制版的方法制備而成。機(jī)顯時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備，其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

1） 繪制生成設(shè)備可以識(shí)別的掩膜版版圖文件（GDS格式）2） 使用無(wú)掩模光刻機(jī)讀取版圖文件，對(duì)帶膠的空白掩膜版進(jìn)行非接觸式曝光（曝光波長(zhǎng)405nm），照射掩膜版上所需圖形區(qū)域，使該區(qū)域的光刻膠（通常為正膠）發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)3） 經(jīng)過(guò)顯影、定影后，曝光區(qū)域的光刻膠溶解脫落，暴露出下面的鉻層4） 使用鉻刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕，將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域，而受光刻膠保護(hù)的鉻層不會(huì)被刻蝕，形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來(lái)控制圖像處理的區(qū)域或處理過(guò)程。5） 在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。