公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實際掩模的尺寸相同。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。 

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。作為半導(dǎo)體、液晶顯示器制造過程中轉(zhuǎn)移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導(dǎo)體制程中非常關(guān)鍵的一環(huán)。另一個，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時，光罩與光阻層會造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴張，因此沒法制做出深奧長寬比的光阻構(gòu)造。

掩膜（MASK）就是指單片機設(shè)計掩膜就是指程序流程統(tǒng)計數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機設(shè)計生產(chǎn)制造的全過程中把程序流程做進來。硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產(chǎn)生的效果是不樣的。優(yōu)勢是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學(xué)圖像處理中，掩?？梢允潜∧?、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。