公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

數(shù)字圖像處理中，圖像掩模主要用于：①提取感興趣區(qū),用預(yù)先制作的感興趣區(qū)掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區(qū)圖像,感興趣區(qū)內(nèi)圖像值保持不變,而區(qū)外圖像值都為0。②屏蔽作用,用掩模對圖像上某些區(qū)域作屏蔽,使其不參加處理或不參加處理參數(shù)的計算,或僅對屏蔽區(qū)作處理或統(tǒng)計。③結(jié)構(gòu)特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結(jié)構(gòu)特征。④特殊形狀圖像的制作。光掩膜一般也稱光罩，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。

光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)和工作原理：

　　光刻機(jī)的光源有：激光，紫外光、深紫外光、極紫外光?，F(xiàn)在先進(jìn)技術(shù)是極紫外光。

　　下圖是以激光為光源的光刻機(jī)簡易工作原理圖：

　　在制造芯片時，首先在晶圓（硅晶片）表面涂光感膠，再用光線透過掩模版（相當(dāng)于芯片電路圖紙的底片）照射硅片表面，被光線照射到的光感膠會發(fā)生反應(yīng)。此后用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠，電路圖就印到硅片上。

　　此過程相當(dāng)于木匠施工用墨斗放樣、劃線。

　　硅片上有了電路圖的圖樣后，就輪到刻蝕機(jī)登場，刻蝕機(jī)相當(dāng)于木匠的鋸子、斧頭、鑿子、刨子?？涛g機(jī)按圖施工，在硅片表面雕刻出晶體管和電路。