光刻工藝主要性一

光刻膠不僅具有純度要求高、工藝復(fù)雜等特征，還需要相應(yīng)光刻機(jī)與之配對調(diào)試。一般情況下，一個(gè)芯片在制造過程中需要進(jìn)行10~50道光刻過程，由于基板不同、分辨率要求不同、蝕刻方式不同等，不同的光刻過程對光刻膠的具體要求也不一樣，即使類似的光刻過程，不同的廠商也會有不同的要求。廣泛使用:(HMDS)、在PR旋轉(zhuǎn)涂覆前HMDS蒸氣涂覆、PR涂覆前用冷卻板冷卻圓片。

針對不同應(yīng)用需求，光刻膠的品種非常多，這些差異主要通過調(diào)整光刻膠的配方來實(shí)現(xiàn)。因此，通過調(diào)整光刻膠的配方，滿足差異化的應(yīng)用需求，是光刻膠制造商核心的技術(shù)。

此外，由于光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小，而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應(yīng)。光刻分辨率與曝光波長、數(shù)值孔徑和工藝系數(shù)相關(guān)。

光刻膠編碼 HS編碼:	3707100001 [類注] | [章注] | [子目注釋]
中文描述:	不含銀的感光乳液劑 （CIQ碼：301:液體）
英文描述:	Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申報(bào)要素:	0.品牌類型；1.出口享惠情況；2.用途；3.包裝；4.成分；5.是否含銀；6.品牌；7.型號；8.是否有感光作用（以下要素僅上海海關(guān)要求）9.GTIN；10.CAS
申報(bào)要素舉例:	/ 1.感光劑；2.用途:感光材料，用于噴墨制版機(jī)；3.包裝:瓶裝；A我們建議使用FuturrexPR1-500A,它有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)：比較好的解析度，比較好的線寬控制，反射比較少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~4．求助，耐高溫的光阻是那一種。4.成分:重氮樹脂94%以上；5.無品牌；6.無型號
單位:	千克

NR77-20000PPR1 1500A1光刻膠價(jià)格

6，堅(jiān)膜

堅(jiān)膜也叫后烘，是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現(xiàn)象，能使膠膜附著能力增強(qiáng)，康腐蝕能力提高。堅(jiān)膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140度 10-30min,7，顯影檢驗(yàn),光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準(zhǔn)不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡，針KONG、小島。光刻膠去除半導(dǎo)體器件制造技術(shù)中，通常利用光刻工藝將掩膜板上的掩膜圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)表面的光刻膠層中。

8刻蝕

就是將涂膠前所墊基的薄膜中沒有被光刻膠覆蓋和保護(hù)的那部分進(jìn)行腐蝕掉，達(dá)到將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到下層材料的目的。濕法刻蝕，SIO2,AL, Poly-Si 等薄膜，干法腐蝕。

NR77-25000PPR1 1500A1光刻膠價(jià)格

(3)其他特性。品牌產(chǎn)地型號厚度曝光應(yīng)用加工特性Futurrex美國NR71-1000PY0。光刻膠的其他特性包括膠的純度、膠內(nèi)的金屬含量、膠的可應(yīng)用范圍、膠的儲存有效期和膠的燃點(diǎn)。