PVD鍍膜層的厚度

　　聚涂層的厚度為微米級，較薄，一般為0.1μm~5μm，其中裝飾涂層的厚度一般為0.1μm~1μm，可以在幾乎不影響工件原有尺寸的情況下提高工件表面的各種物理化學性能，保持工件尺寸基本不變，鍍后無需再加工。

　　PVD中文意味著物理氣相沉積，是指在真空條件下，用物理方法將材料沉積在鍍膜工件上的薄膜制備技術。PVD鍍膜技術的應用主要分為裝飾鍍膜和工具鍍膜.

真空鍍膜可以使原料具有許多新的、的物理和分析化學特征。20世紀70年代，物品表面表層鍍膜的方法重要包括電鍍和化學鍍鎳。前者根據(jù)插線，將鋰電池電解液電解水、電解水的等離子體涂抹在另一個電極的基本表面，因此這樣表面的表層鍍膜的規(guī)范，基本上盡量是電的良導體，塑料薄膜的厚度也無法控制。

真空鍍膜-五金工具真空鍍膜的優(yōu)點

五金工具真空鍍膜能發(fā)生很硬的陶瓷涂層，這有利于進步耐磨性；涂層均勻共同，且孔隙度小，涂層結合強度高（大于70MPa)；涂層外表粗糙度小，可不需加工。

真空蒸鍍金屬薄膜怎么樣？鍍鋁層導電性能好，能消除靜電效應；其封口性能好，尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時，不會污染封口部分，確保了包裝的密封性能。對印刷、復合等后加工具有良好的適應性。由于以上特點，使鍍鋁薄膜成為一種性能優(yōu)良、經(jīng)濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、農(nóng)產(chǎn)品的真空包裝，以及藥品、化妝品的包裝。另外，鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標標簽材料等。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：定義：pvd真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術。真空蒸發(fā)踱膜主要經(jīng)歷：1、采用各種能源方式轉換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能星的氣態(tài)粒子（原子、分子和原子團）；2、離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；3、到達基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；4、組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學鍵合。