化學(xué)氣相沉淀化學(xué)氣相沉淀 (CVD) 系統(tǒng)具有 多種配置用于沉積多種類型的薄膜。制程 還以不同的壓力和流量狀態(tài)運(yùn)行，其中的許多狀態(tài) 都使用含氟的干燥清潔制程。所有這些可變因素意味著您 需要咨詢我們的應(yīng)用工程師之一來選擇適當(dāng)?shù)谋?和氣體減排系統(tǒng)以便大程度地延長我們產(chǎn)品的維修間隔并 延長您制程的正常運(yùn)行時(shí)間。通用三相電機(jī)還可用于所有機(jī)型，對(duì)于特殊應(yīng)用，我們可提供裝有ATEX認(rèn)證防爆電機(jī)的泵。

干泵選擇

CVD 制程通常需要通過選擇適當(dāng)?shù)?干泵產(chǎn)品來克服四個(gè)特定挑戰(zhàn)。這些挑戰(zhàn)是：

粉末

許多制程會(huì)產(chǎn)生 大量粉末副產(chǎn)品。需要將真空泵設(shè)計(jì)成 能夠處理這些粉末而不被卡住。在某些情況下，粉末實(shí)際上可能 很粘或需要高溫運(yùn)行才能確保粉末中夾帶的其他 副產(chǎn)品不在泵內(nèi)部冷凝并卡住泵機(jī)構(gòu)。 對(duì)于幾乎所有產(chǎn)生粉末的制程，您將不得不使用 采用高扭矩電機(jī)的泵，以確保泵在應(yīng)力下保持 旋轉(zhuǎn)。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點(diǎn)減排系統(tǒng)等各種系統(tǒng)，用來優(yōu)化從輕負(fù)荷制程到超重負(fù)荷制程的各項(xiàng)應(yīng)用的性能表現(xiàn)。

冷凝

半導(dǎo)體 制程的某些副產(chǎn)品含有氣體，當(dāng)氣體分壓 增加或與冷表面接觸時(shí)，這些氣體會(huì)從氣 相變?yōu)楣滔?。在泵送這些副產(chǎn)品時(shí)， 您將需要非常熱的泵，是從入口到出口 具有盡可能一致的溫度分布的泵。

腐蝕

有些制程 需要泵送鹵化物。尤其是需要含氟的清潔制程來 保持艙室的清潔性，但被激的氟自由基 可能會(huì)侵蝕泵的內(nèi)表面。如果制程主要使用 可能對(duì)泵造成腐蝕的化學(xué)品，您需要確?？梢?將泵溫度設(shè)置為一個(gè)較低值以降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。我們的泵設(shè)計(jì) 具有可選的溫度設(shè)定點(diǎn)和高旋轉(zhuǎn) 速度以降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)并降低泵中不可避免 發(fā)生的總體材料損失速率。對(duì)于某些 CVD 制程，需要在溫度設(shè)定點(diǎn)上 達(dá)到平衡，以確保避免任何冷凝問題， 同時(shí)不使腐蝕速度過高。冷凝半導(dǎo)體制程的某些副產(chǎn)品含有氣體，當(dāng)氣體分壓增加或與冷表面接觸時(shí)，這些氣體會(huì)從氣相變?yōu)楣滔唷?