真空涂層技術發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢?，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實現(xiàn)互補，將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切削過程中保持清晰，不會與骨骼、組織或體液發(fā)生反應，故而，越來越多都用于，例如鋒利的手術器械、針頭、鉆頭、、各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。PVD功能性硬涂層(如DLC，TIN)已廣泛應用在不銹鋼零部件上，作用是可減少摩損和延長零部件壽命，但因為涂層本身有缺陷和，所以使用在一些  耐腐蝕要求高的環(huán)境下，效果不佳。PVD功能膜配合納米透明膜是目前更理想的解決方案：PVD涂層提供耐磨性，納米透明膜提供耐腐蝕性。

       PVD工藝一般只是直線沉積，對形狀復雜，縱橫比高或有深孔的工件是難以得到均勻的厚度。納米透明膜可解決這問題，無論形狀多復雜，每個位置的膜厚都是一致的，沒有大偏差。

       將標準建筑照明應用中的環(huán)境條件與海洋環(huán)境相比較可以幫助我們了解LED燈珠惡化的潛在原因。在建筑照明應用中，由于照明單元的設計，LED燈珠本身可能被覆蓋，或者LED燈珠的朝向使得它只可能暴露于環(huán)境溫度和濕度的一般變化中。在海洋環(huán)境中，LED燈珠可能會被鹽水濺到或者浸泡。此外，在所有的情況下，LED燈珠的大部分使用壽命是在鹽霧環(huán)境中工作。高鹽條件可能會導致腐蝕印刷電路板（PCB），從而比一般濕度變化會更快地降低其性能。通常，在這些環(huán)境中，封裝樹脂、保形涂層均可提供高水平的保護。