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AF真空鍍膜設備優(yōu)惠報價「至成真空科技」

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發(fā)布時間:2021-03-22 15:32  









什么是光學鍍膜:


光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

光學鍍膜原理:真空鍍膜真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等多種涂料,所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材,將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發(fā)涂層通常是加熱目標,以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā),并通過成膜方法(散射島結構-梯形結構-層狀生長)沉積在基材的表面上,薄膜。


對于濺射狀涂層,很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的,表面組分以自由基或離子的形式濺射,后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學鍍膜材料有以下幾種:

1、二氧化硅材料特點:無色透明晶體,熔點高,硬度大,化學穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點白色重質結晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學性質穩(wěn)定,純度高,用其制備高質量氧化鋯鍍膜,不出崩點。



AF防指紋真空鍍膜機防指紋處理的工藝流程:


(1)使用弱堿性清洗劑或溶劑去除基材表面油分、水分等污跡,通過超聲波清洗效果更好;(2)將AF藥液鍍在產品表面成膜;(3)烘烤:噴涂后取出玻璃,放入烤箱(120度,30分鐘),視具體要求及產品情況調整至良好;(4)清潔:產品清潔后,成品包裝。

AF防指紋真空鍍膜機特點和應用領域:

(1)防污性:防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除;(2)防刮傷:表面滑順,手感舒服,不容易刮花;(3)膜層?。簝?yōu)異光學性能、不改變原有的紋理;(4)耐磨性:具有真度耐磨性能

AF防指紋真空鍍膜機的品質:

(1)擦傷測試及水滴角指標:(2)初始水滴角115-120度,(3)擦傷測試(#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、(4)摩擦次數(shù)2000次)后,水滴角108-116度。(5)表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例,9HMax.鉛筆硬度。



包裝卷繞真空鍍膜設備


HCPAK系列卷繞鍍膜設備是用于鋁屏障包裝應用的卷對卷金屬化解決方案。在利潤率較低的行業(yè)中,的生產效率,再加上的產品性能,是應對未來挑戰(zhàn)的。

通過將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強光學、保護和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100~3850mm的寬幅,以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材,針對2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實現(xiàn)輸出,比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。

特點:高正常運行時間,因為一個強大和服務友好的機器概念由于強大的等離子預處理,產品一致性高,阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置,在層均勻性方面具有的產品質量簡化操作和優(yōu)化設計,便于操作的設備卷繞系統(tǒng)的創(chuàng)新設計概念使卷繞路徑能夠靈活地適應基板和應用的個別要求。由于穩(wěn)健的機器設計,正常運行時間很長


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