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離子束刻蝕機(jī)原理行業(yè)專家在線為您服務(wù)

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發(fā)布時間:2020-11-14 09:52  







刻蝕技術(shù)

北創(chuàng)世威納京專業(yè)生產(chǎn)、銷售離子束刻蝕機(jī),我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

刻蝕技術(shù)(etching technique),是在半導(dǎo)體工藝,按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù)??涛g技術(shù)不僅是半導(dǎo)體器件和集成電路的基本制造工藝,而且還應(yīng)用于薄膜電路、印刷電路和其他微細(xì)圖形的加工??涛g還可分為濕法刻蝕和干法刻蝕。
















刻蝕機(jī)

以下是創(chuàng)世威納為您一起分享的內(nèi)容,創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)離子束刻蝕機(jī),歡迎新老客戶蒞臨。

刻蝕機(jī)是基于真空中的高頻激勵而產(chǎn)生的輝光放電將四氟化碳中的氟離子電離出來從而獲得化學(xué)活性微粒與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生輝發(fā)性物質(zhì)進(jìn)行刻蝕的。同時為了保證氟離子的濃度和刻蝕速度必須加入一定比例的氧氣生成二氧化碳。   

刻蝕機(jī)主要對太陽能電池片周邊的P—N結(jié)進(jìn)行刻蝕,使太陽能電池片周邊呈開路狀態(tài)。也可用于半導(dǎo)體工藝中多晶硅,氮化硅的刻蝕和去膠。










離子束刻蝕

利用低能量平行Ar 離子束對基片表面進(jìn)行轟擊,表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出,從而達(dá)到選擇刻蝕的目的,它采用純物理的刻蝕原理。離子束刻蝕是目前所有刻蝕方法中分辨率較高,陡真性較好的方法,它可以對所有材料進(jìn)行刻蝕,例如:金屬、合金、氧化物、化合物、混合材料、半導(dǎo)體、絕緣體、超導(dǎo)體等。

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