凈化車間工程可分為空氣凈化與水凈化

凈化車間工程可分為空氣凈化與水凈化，空氣凈化是在一定空間范圍內(nèi)，將空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等污染物排除，并將室內(nèi)溫度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)的工程學科。凈化工程所特別設計的房間，不論外在空氣條件如何變化，室內(nèi)均具有維持原先所設定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能。

高新風量化學污染物是不能夠采用過濾手段清除的

高新風量 化學污染物是不能夠采用過濾手段清除的,它只能通過大量的新風換氣,把它稀釋及排出手術室外。因此,手術室空調(diào)系統(tǒng)必須具有高而穩(wěn)定的新風量。 有些國家的標準容許較低的新風量,但必須配合較高的空氣循環(huán)次數(shù),在ASHRAE明確表示只需在當?shù)赜兴?guī)定的國家才需要100%的新風系統(tǒng)。因此,在空氣循環(huán)來自同一手術室的情況下,以下的新風量是允許的： （1）特別潔凈手術室(I級)新風量不低于1000m3/h。 （2）標準潔凈手術室(II級)新風量不低于800m3/h。 （3）一般潔凈手術室(III級)新風量不低于800m3/h。 （4）準潔凈手術室(IV級)新風量不低于送風量的25%。 送風應通過天花板送風,回風應通過兩側在距地面垂直距離150mm以上，500mm以下的位置回風,送風口必須采用單向式并帶有過濾器,一般的送風散流器不適用于手術室。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。 具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。 壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

無窗潔凈室的照明方式有哪些?

潔凈室的照度控制 由于潔凈室內(nèi)的工作內(nèi)容大都有精細的要求，而且又都是密閉性房屋，所以對照明一向有很高的要求。這里有必要先說明一下無窗潔凈室的照明方式： (1)一般照明 它指不考慮特殊的局部需要，為照亮整個被照面積而設置的照明。 (2)局部照明 這是指為增加某一地點（如工作點）的照度而設置的照明。但在室內(nèi)照明由一般不單獨使用局部照明。 (3)混合照明 這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設計規(guī)范》應占總照度的10%—15%，但不低干150LX。 單位被照面積上接受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。 國外潔凈室的強度要求極高，例如美國關于潔凈室的幾個標準的要求是． 100級: 1080-16001x 10000級: >lOOOlx 100000級: >1000LX 人工光300lx有較好的效果，當工件精細程度更高時，500x也是允許的。對于要紅燈照明的地方，如電子行業(yè)的光刻車間，其照度一般為25—501x)， 用天然光時可允許更高的照度，因而對工作是有利的，所以今后潔凈室的照明既采用人工光也采用天然光可能是有前途的，這也是為了節(jié)能而出現(xiàn)的一種動向。