氮化鈦的結構及性能

TiN具有典型的NaCl型結構，屬面心立方點陣，面心立方的頂部是氮原子，鈦原子位于面心立方的(1/2,0,0)空間位置。TiN是非化學計量化合物，其穩(wěn)定的組成范圍為TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內變化而不引起TiN結構的變化。TiN粉末一般呈黃褐色，超細TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN的晶格常數為a=4.23 nm，TiC的晶格常數為a=4.238 nm，TiO的晶格常數為a=4.15 nm，這三種物質的晶格參數非常接近，所以TiN分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶體，氮化鈦的理化性質由氮元素的含量來決定，當氮元素含量減少時，氮化鈦的晶格參數反而增大，硬度也會有顯微的增大，但氮化鈦的抗震性隨之降低。 次數用完API KEY 超過次數限制

氮化鈦具有熔點高，化學穩(wěn)定性好，硬度大，導電、導熱和光性能好等良好的理化性質，使其在各個領域都有著非常重要的用途，尤其是在新型金屬陶瓷領域和代金裝飾領域方面。工業(yè)對氮化鈦粉末的需求越來越多，氮化鈦作為涂層價格既低廉又耐磨耐腐蝕，它的好多性能都優(yōu)于真空涂層。氮化鈦的應用前景非常廣闊。

其主要應用于以下幾個方面：

（1）氮化鈦生物兼容性高，可以應用于臨床醫(yī)學和口腔醫(yī)學方面。

（2）氮化鈦摩擦系數較低，可作為高溫潤滑劑。 次數用完API KEY 超過次數限制

后處理，涂面漆。第三節(jié)濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。近年發(fā)展起來的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復性好，便于自動化，已適當于進行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節(jié)電弧蒸發(fā)和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā)，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑?；“呔褪请娀≡陉帢O附近的弧根。 次數用完API KEY 超過次數限制

有70多種元素、50多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上，則從靶材飛出的原子便會沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點金屬、合金、半導體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數用完API KEY 超過次數限制