鍍膜機(jī)廠(chǎng)家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對(duì)于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來(lái)說(shuō)，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的測(cè)試的方法很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機(jī)廠(chǎng)家就來(lái)為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說(shuō)就是鍍膜機(jī)廠(chǎng)家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點(diǎn)，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來(lái)說(shuō)是一種更適合對(duì)真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)測(cè)方法。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

繞鍍能力強(qiáng)

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線(xiàn)方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。

真空電鍍機(jī)操作注意事項(xiàng)

左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。

低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕'1'旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。

當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。

真空鍍膜機(jī)開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。

低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開(kāi)高壓閥（閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn)）。

等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。

發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。

左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。

旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”，使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。

發(fā)射、零點(diǎn)、測(cè)量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點(diǎn)位置。

旋轉(zhuǎn)零點(diǎn)調(diào)節(jié)鈕“10”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。

發(fā)射、零點(diǎn)、測(cè)量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測(cè)量位置。

旋轉(zhuǎn)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)節(jié)鈕“3”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。

旋轉(zhuǎn)“倍加器”開(kāi)關(guān)鈕“8”至指向10-12，當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時(shí)針左移超過(guò)1時(shí)，再把“倍加器”開(kāi)關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。