真空計是真空磁控濺射鍍膜機(jī)器上有什么作用

真空計：真空計是真空磁控濺射鍍膜機(jī)器上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機(jī)真空度的重要手段。真空計根據(jù)其工作原理可以分為真空計和相對真空計，真空計可以直接測量壓強(qiáng)的高低，相對真空計只能間接測量真空度。蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹，因為此兩種方式我應(yīng)用的比較多。電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。成膜控制系統(tǒng)，薄膜監(jiān)控目前應(yīng)用方式比較多，主要有：目視監(jiān)控法，定（極值）值監(jiān)控、水晶振蕩監(jiān)控、時間監(jiān)控等等。本人主要介紹目視監(jiān)控、定（極值）監(jiān)控和水晶振蕩監(jiān)控三種。目視監(jiān)控也叫直接監(jiān)控，就是采用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗。

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ?、固化時間短。 真空鍍對面涂層的要求：①與鍍膜層要有良好的接觸性能;②與底涂層要有一定的相溶性;③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好?？估匣阅軓?qiáng)。由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要？ 厚度均勻性主要取決于： 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度；2、基片表面溫度；3、蒸發(fā)功率，速率；4、真空度；5、鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實驗研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。