一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

能量色散X熒光光譜儀定義及原理

X射線熒光光譜儀是一種可以對多元素進行快速同時測定的儀器。試樣受X射線照射后，其中各元素原子的內殼層（K，L或M層）電子被激發(fā)逐出原子而引起電子躍遷，并發(fā)射出該元素的特征X射線熒光。采用基本參數法（FP），有內置頻譜庫，無論是鍍層系統還是固體和液體樣品，都能在沒有標準片的情況下進行準確的分析和測量。每一種元素都有其特定波長的特征X射線。能散型X射線熒光光譜儀（EDXRF）利用熒光X射線具有不同能量的特點，由探測器本身的能量分辨本領來分辨探測到的X射線。

鍍層厚度分析儀的測量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測量法，稱重法，X射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測量法及渦流測量法等等。這些方法中前五種是有損檢測，測量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗。

X射線和β射線法是無接觸無損測量，測量范圍較小，X射線法可測極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號大于3的鍍層測量。電容法僅在薄導電體的絕緣覆

層測厚時采用。

    一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產銷售一體

   元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

   一次可同時分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

     X射線熒光光譜測厚儀   X射線的產生  

X射線波長略大于0.5納米的被稱作軟X射線。波長短于0.1納米的叫做硬X射線。

產生X射線的簡單方法是用加速后的電子撞擊金屬靶。撞擊過程中，電子突然減速，其損失的動能(其中的1%)會以光子形式放出，形成X光光譜的連續(xù)部分，稱之為制動輻射。如果使用金屬箔貼在特殊基體表面作標準片，就必須注意確保接觸清潔，無皺折紐結。通過加大加速電壓，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內層電子撞出。于是內層形成空穴，外層電子躍遷回內層填補空穴，同時放出波長在0.1納米左右的光子。由于外層電子躍遷放出的能量是量子化的，所以放出的光子的波長也集中在某些部分，形成了X光譜中的特征線，此稱為特性輻射。

選擇Elite（一六儀器）X射線熒光鍍層測厚儀理由：

   根據IPC規(guī)程，必須使用整塊的標準片來校正儀器，對于多鍍層的測量，目前大多數客戶購買的測厚儀采用的是多種箔片疊加測量校正，比如測量PCB板上的Au/Pd/Ni/Cu,因為測量點很小，測量距離的變化對測量結果有較大影響，如果使用Au，Pd，Ni三種箔片疊加校正，校正的時候箔片之間是有空氣，并且Pb元素與空氣的頻譜重疊，以上會對測量結果產生較大影響，Elite（一六儀器）測厚儀有電鍍好的整塊的Au/Pd/Ni/base標準片，不需要幾種箔片疊加校正，可以確保鍍層測量的準確性。還采用專利設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現性有了大幅度的提高（幾乎達一個數量級）。

2、采用微聚焦X射線管，油槽式設計，工作時采用油冷，長期使用時壽命更長。微聚焦X射線管配合比例接收能實現高計數率，可以進行測量。

3、Elite（一六儀器）WinFTM專用軟件，具有強大且界面友好、中英文切換，多可同時測量23層鍍層，24種元素，測量數據可直接以WORD格式或EXCEL格式輸出、打印、保存。經典模型認為物質的表面并不是一個抽象的幾何概念，而是由剛性球的原子（分子）緊密排列而成，是實際存在的一個物理概念。采用基本參數法（FP），有內置頻譜庫，無論是鍍層系統還是固體和液體樣品，都能在沒有標準片的情況下進行準確的分析和測量。

4、 Elite（一六儀器）針對PCB（印制電路板）線路板上的鍍層厚度及分析而設計的X射線熒光測厚儀（XDLM-PCB200/PCB210系列）具有以下特點：1）工作臺有手動和程序控制供客戶選擇，2）采用開槽式設計和配置加長型樣品平臺，用于檢測大尺寸的線路板。X射線和β射線法是無接觸無損測量，測量范圍較小，X射線法可測極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。