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申請實(shí)用新型專利所需材料:
提供技術(shù)交底書一份,內(nèi)容如下:
1、 發(fā)明創(chuàng)造的名稱及所屬技術(shù)領(lǐng)域;
2、 對相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行客觀評述,并指出其不足之處;
3、 闡述本發(fā)明創(chuàng)造的目的;
4、 清楚、完整地?cái)⑹霰景l(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)內(nèi)容,并明確指出本發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)不同的技術(shù)特征;
申請主題為結(jié)構(gòu)時(shí),寫出結(jié)構(gòu)組成及各組成之間的聯(lián)接關(guān)系,并提供結(jié)構(gòu)示意圖紙一份;
申請主題為配方時(shí),寫出各組成部分成份、各成份的含量范圍及最i佳含量值,并指出各成份在配方中所起的作用;
申請主題為制造方法時(shí),寫出制造工藝過程及各步驟的工藝條件;
5、 本申請的優(yōu)點(diǎn)和達(dá)到的技術(shù)效果;
6、 列舉適量的實(shí)施例解釋實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造的具體技術(shù)方案。
專利異議人指從專利申請審定公告之日起,在規(guī)定的異議期限內(nèi)就公告的專利申請向?qū)@鞴軝C(jī)關(guān)提出異議的公民、法人或其他組織。
??專利異議人范圍
??中國《專利法》規(guī)定,除了以下3種人以外,任何人都有資格提出異議:
??(1)共同申請人;
??(2)與專利申請人訂有互不侵權(quán)協(xié)議的人;
??(3)當(dāng)異議案涉及申請專利的權(quán)利和專利權(quán)歸屬問題時(shí),其中的非實(shí)際權(quán)利人。
??(4)在中國沒有居所或營業(yè)所的外國人提出異議應(yīng)委托有關(guān)專利代理機(jī)構(gòu)代理。異議人對公告的專利申請?zhí)岢霎愖h,應(yīng)向?qū)@痔峤划愖h書并繳納異議費(fèi)。在專利局進(jìn)行異議審查過程中,異議人有權(quán)進(jìn)行陳述,也有權(quán)隨時(shí)撤回其異議請求。專利局認(rèn)為異議理由不成立,有權(quán)作出授予專利權(quán)的決定。異議人對專利局授權(quán)決定不服不得立即請求復(fù)審,只能在專利權(quán)取得以后,向?qū)@麖?fù)審委i員會(huì)請求宣告無效。
??專利異議人相關(guān)法律規(guī)定
??對于專利異議人,各國專利法主要有如下規(guī)定:
??(1)專利異議人的地域范圍不僅限于本國(本地區(qū))、而且也可以是其他國家和地區(qū)的公民、法人和其他組織。
??(2)專利異議人在提出異議時(shí)應(yīng)向?qū)@痔峤弧秾@愖h書》。并繳納異議費(fèi),
??(3)專利異議人提出的理由只限于:專利申請不具備授予專利權(quán)的條件;專利申請屬于不授予專利權(quán)的技術(shù)領(lǐng)域;專利申請不符合充分公開的要求;申請人無權(quán)獲得專利權(quán),如職務(wù)發(fā)明由個(gè)人提出申請等。修改后的專利申請超出了原說明書記載的范圍。
??(4)在異議程序中,專利異議人的權(quán)利包括:有權(quán)提交確實(shí)可靠的各種資料,如手冊、產(chǎn)品目錄等;有權(quán)與審查員會(huì)晤,參加審查員與申請人的會(huì)晤;有權(quán)查閱或者得到申請入與專利局之間的往來文件。
周邊限定原則在理解和解釋權(quán)利要求時(shí),只能嚴(yán)格地按照權(quán)利要求書的字面含義來進(jìn)行,任何擴(kuò)大解釋都是不允許的。可見,采用周邊限定模式的,權(quán)利要求的撰寫好壞對專利權(quán)人來說是至關(guān)重要的,因?yàn)闄?quán)利要求書的文字一旦經(jīng)專利權(quán)審查確定,其專利權(quán)的保護(hù)范圍也就隨之確定,侵權(quán)審理法i院在解釋專利權(quán)保護(hù)范圍時(shí)也必須遵循授權(quán)的權(quán)利要求書的文字內(nèi)容來進(jìn)行。
??優(yōu)點(diǎn)
??周邊限定原則做法的優(yōu)點(diǎn)是,可以通過權(quán)利要求書相對清晰地了解該專利權(quán)的保護(hù)范圍,而不必作任何帶有一定隨意性的推測;但其缺點(diǎn)也是顯而易見的,采用這種做法對專利申請人或?qū)@砣颂岢隽溯^高的要求,權(quán)利要求的撰寫必須再三推敲、斟酌,否則專利權(quán)人則可能因其權(quán)利要求撰寫方面的缺陷,導(dǎo)致其技術(shù)不能得到充分地保護(hù)。