鍍膜機廠家介紹光學監(jiān)控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學監(jiān)控法，其相對于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來說，光學監(jiān)控法更具有準確性，因為傳統(tǒng)的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學監(jiān)控法的特點。

光學監(jiān)控法可以有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長，光學監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學監(jiān)控法的一些特點，而從中我們不難看出光學監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監(jiān)測方法。

磁控濺射鍍膜設備濺射方式

繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。

真空電鍍機操作注意事項

左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。

低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕'1'旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。

當?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉(zhuǎn)）。

等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時，開規(guī)管燈絲開關(guān)。

發(fā)射、零點測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。

左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。

旋轉(zhuǎn)發(fā)射調(diào)節(jié)鈕“4”，使高壓真空表“5”內(nèi)指針指向5。

發(fā)射、零點、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向零點位置。

旋轉(zhuǎn)零點調(diào)節(jié)鈕“10”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向0位置。

發(fā)射、零點、測量旋鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向測量位置。

旋轉(zhuǎn)標準調(diào)節(jié)鈕“3”，讓高壓真空表“5”內(nèi)指針指向10。

旋轉(zhuǎn)“倍加器”開關(guān)鈕“8”至指向10-12，當高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時針左移超過1時，再把“倍加器”開關(guān)旋鈕“8”旋轉(zhuǎn)至指向10-3。