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直流磁控濺射優(yōu)選企業(yè) 創(chuàng)世威納科技公司

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發(fā)布時(shí)間:2020-07-25 16:20  







磁控濺射鍍膜機(jī)原理

由此可見(jiàn),濺射過(guò)程即為入射離子通過(guò)一系列碰撞進(jìn)行能量交換的過(guò)程,入射離子轉(zhuǎn)移到逸出的濺射原子上的能量大約只有原來(lái)能量的1%,大部分能量則通過(guò)級(jí)聯(lián)碰撞而消耗在靶的表面層中,并轉(zhuǎn)化為晶格的振動(dòng)。濺射原子大多數(shù)來(lái)自靶表面零點(diǎn)幾納米的淺表層,可以認(rèn)為靶材濺射時(shí)原子是從表面開(kāi)始剝離的。如果轟擊離子的能量不足,則只能使靶材表面的原子發(fā)生振動(dòng)而不產(chǎn)生濺射。如果轟擊離子能量很高時(shí),濺射的原子數(shù)與轟擊離子數(shù)之比值將減小,這是因?yàn)檗Z擊離子能量過(guò)高而發(fā)生離子注入現(xiàn)象的緣故。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊Ar產(chǎn)生離子的概率。

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磁控濺射靶在鍍膜過(guò)程中的重要作用? ??

磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件,它的重要作用主要表現(xiàn)在以下兩個(gè)方面(1)對(duì)于大面積表面的鍍膜,磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復(fù)性;(2)當(dāng)膜層材料為貴重金屬時(shí),靶的結(jié)構(gòu)決定著靶材(形成薄膜的材料),即該貴重金屬的利用率。

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磁控濺射技術(shù)鍍膜

磁控濺射技術(shù)鍍膜是一種重要的物理的氣相沉積鍍膜技術(shù),這種工藝可工業(yè)化批量生產(chǎn)。本文重點(diǎn)探討了磁控濺射在光學(xué)鍍膜中的應(yīng)用,包括膜層設(shè)計(jì)和鍍膜工藝。

光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)

(1)減反射膜

減反射也稱(chēng)增透膜,這種膜主要鍍?cè)谕该鞯驼凵渎驶咨?,如玻璃上鍍減反射膜,常見(jiàn)的膜層結(jié)構(gòu)采用高、低折射率膜層疊加而成

(2)彩色鍍膜 彩色鍍膜主要也是在玻璃等透明基底上鍍膜,其膜層材料和結(jié)構(gòu)類(lèi)似減反射鍍膜。這種玻璃在可見(jiàn)光下透射和反射的顏色不同。

3)漸變反射膜 漸變反射膜是一種在不同角度觀察,反射的顏色不同的膜層。這種膜層可以鍍?cè)诓A?,也可以鍍?cè)诮饘倩住?

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磁控濺射中靶zhong毒是怎么回事,一般的影響因素是什么?

靶zhong毒的影響因素  

影響靶zhong毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過(guò)量就會(huì)導(dǎo)致靶zhong毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過(guò)程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長(zhǎng)的過(guò)程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應(yīng)氣體量增加過(guò)度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時(shí)調(diào)整反應(yīng)氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制,濺射溝道將進(jìn)一步被化合物覆蓋,當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候,靶完全zhong毒。從應(yīng)用角度出發(fā),通常要求ITO薄膜的成份是In2O3和SnO2,薄膜中銦錫低價(jià)化合物愈少愈好。

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