磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)的特點(diǎn)

(1)離子轟擊滲擴(kuò)更快因?yàn)檫x用低溫等離子無心插柳，為滲劑分子和正離子的吸咐和滲人造就了高寬比活性的表層，提升了結(jié)晶中缺點(diǎn)的相對(duì)密度，比傳統(tǒng)式的汽體滲擴(kuò)技術(shù)性速率明顯增強(qiáng)。磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)的特點(diǎn)(1)鋼件形變小因?yàn)殇摷韺觿蚍Q遮蓋輝光，溫度完整性好，能夠根據(jù)操縱輸出功率輸出來保持勻稱提溫。在一樣加工工藝標(biāo)準(zhǔn)下，滲層深度1在0.05二以內(nèi)，比汽體滲擴(kuò)提升1倍。在較高溫度下，1h就能達(dá)lmm厚。

(2)對(duì)鋼件表層改性材料成效顯著，工藝性能高，真空泵加溫易清除高溫冶煉廠時(shí)融解的汽體，并可根據(jù)滲人金屬材料更改PCB的機(jī)構(gòu)和構(gòu)造，使耐磨性能、耐蝕性、強(qiáng)度和斷裂韌性等眾多特性獲得改進(jìn)。如果轟擊離子能量很高時(shí)，濺射的原子數(shù)與轟擊離子數(shù)之比值將減小，這是因?yàn)檗Z擊離子能量過高而發(fā)生離子注入現(xiàn)象的緣故。而且因?yàn)榍謇砉π?，使金屬材料粗糙度減少，除去不銹鋼鈍化的殘?jiān)蛷U棄物，改進(jìn)了金屬材料的工藝性能。 

(3)加工工藝適應(yīng)能力強(qiáng)，有利于解決方式繁雜的鋼件。實(shí)際上，每個(gè)設(shè)備都有使用壽命，例如，擴(kuò)散泵用的硅油，使用壽命為兩年左右，我們提早更換，這是浪費(fèi)嗎。傳統(tǒng)式的正離子注人技術(shù)性的致命性缺點(diǎn)是注人全過程是1個(gè)視野全過程，只能曝露在正離子搶口下的鋼件表層能夠被注人，針對(duì)鋼件中必須表層改性材料的內(nèi)表層或管溝表層等，離子束則很難達(dá)到，而且一回只有注一人鋼件，注人率低，機(jī)器設(shè)備繁雜價(jià)格昂貴

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直流磁控濺射技術(shù)

為了解決陰極濺射的缺陷，人們?cè)?0世紀(jì)開發(fā)出了直流磁控濺射技術(shù)，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點(diǎn)，因而獲得了迅速發(fā)展和廣泛應(yīng)用。在這種級(jí)聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量，離開靶被濺射出來。其原理是：在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng)，其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng)，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時(shí)，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。該方法的缺點(diǎn)是不能制備絕緣體膜，而且磁控電極中采用的不均勻磁場(chǎng)會(huì)使靶材產(chǎn)生顯著的不均勻刻蝕，導(dǎo)致靶材利用率低，一般僅為20%-30%。

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磁控濺射鍍膜機(jī)

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目前國(guó)內(nèi)窗膜行業(yè)的批發(fā)商及終端店很多人都吃過磁控鍍銀膜氧化的虧，產(chǎn)品賣出后幾個(gè)月，開始大面積氧化，需要賠償，甚至還失去了客戶。特別是NSN系列在13、14年出的問題特別多，搞得很多人談磁控膜色變的地步。當(dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。而在15、16年后，問題得到解決。慢慢地就沒多少氧化問題出現(xiàn)了。這也讓很多剛接觸磁控膜的人以為磁控膜都是鍍銀的膜，一說磁控膜就問會(huì)不會(huì)氧化。其實(shí)大可不必?fù)?dān)心，大部分的側(cè)檔都不是銀的，請(qǐng)放心使用。且這兩年的技術(shù)進(jìn)步，國(guó)內(nèi)各磁控工廠也找到了解決氧化的方法。其實(shí)在玻璃鍍膜行業(yè)，早就解決了氧化問題，我記得早期的low-e玻璃在鍍膜后必須在24小時(shí)內(nèi)合成中空，不然就會(huì)氧化。當(dāng)時(shí)low-e與中空都是鍍膜廠做的，下邊玻璃加工廠根本無法介入，而現(xiàn)在鍍膜廠只需生產(chǎn)玻璃鍍膜原片。且玻璃原片爆露在空氣中可達(dá)6個(gè)月以上，都不會(huì)氧化。這樣中空玻璃，一些門窗廠，幕墻公司、小規(guī)模的玻璃深加工工廠，都可以生產(chǎn)low-e中空玻璃了，加上政府政策的支持與引導(dǎo)，大大的加快了low-e玻璃的發(fā)展與普及。做窗膜磁控濺射鍍膜的應(yīng)多去看看玻璃行業(yè)的low-e鍍膜，多些交流。畢竟生產(chǎn)原理是一樣的東西，技術(shù)是相通的。很多東西是可以套用的，low-e鍍膜得到了規(guī)?；陌l(fā)展，技術(shù)工藝已非常成熟了。窗膜磁控濺射鍍膜終是要與玻璃配套的，如何與玻璃上直接鍍膜做差異化發(fā)展，才是正道。就目前來說，僅從隔熱性能、保溫性能上與玻璃對(duì)抗，是不可能有成本上優(yōu)勢(shì)的。但都是鍍膜，如何做差異化，我目前也只是拋磚引玉，只有大家一起開動(dòng)腦袋了。

磁控濺射鍍膜機(jī)的優(yōu)勢(shì)

1.實(shí)用性：設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件；通過更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用；

2.方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔；

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