不銹鋼酸洗鈍化的注意事項(xiàng)5．1酸洗鈍化的前處理

不銹鋼工件酸洗鈍化前如有表面污物等，應(yīng)通過(guò)機(jī)械清洗，然后除油脫脂。如果酸洗液與鈍化液不能去除油脂，表面存在油脂會(huì)影響酸洗鈍化的質(zhì)量，為此除油脫脂不能省略，可以采用堿液、乳化劑、溶劑與蒸汽等進(jìn)行。

5．2酸洗液及沖洗水中Cl-的控制

某些不銹鋼酸洗液或酸洗膏采用加入鹽酸、，三氯化鐵與氯化鈉等含氯離子的侵蝕介質(zhì)作為主劑或助劑去除表面氧化層，除油脂用三等含氯溶劑，從防止應(yīng)力腐蝕來(lái)說(shuō)是不太適宜的。此外，對(duì)初步?jīng)_洗用水可采用工業(yè)水，但對(duì)至終清洗用水要求嚴(yán)格控制鹵化物含量。通常采用去離子水。如石化奧氏體不銹鋼壓力容器進(jìn)行水壓試驗(yàn)用水，控制C1-含量不超過(guò)25mg／L，如無(wú)法達(dá)到這一要求，在水中可加入處理，使其達(dá)到要求，C1-含量超標(biāo)，會(huì)破壞不銹鋼的鈍化膜，是點(diǎn)蝕、縫隙腐蝕、應(yīng)力腐蝕等的根源。

5．3酸洗鈍化操作中的工藝控制

溶液?jiǎn)为?dú)用于清理游離鐵和其它金屬污物是有效的，但對(duì)清理氧化鐵皮，厚的腐蝕產(chǎn)物，回火膜等無(wú)效，一般應(yīng)采用HNO3 HF溶液，為了方便與操作安全，可用氟化物代替HF[2]。單獨(dú)HNO3溶液可不加緩蝕劑，但HNO3 HF酸洗時(shí)，需要加Lan-826。使用HNO3 HF酸洗，為防止腐蝕，濃度應(yīng)保持5：1的比例。溫度應(yīng)低于49℃，如過(guò)，HF會(huì)揮發(fā)。

形成水垢的第三個(gè)原因：

隨著溫度的升高，某些鹽的溶解度逐漸降低，然后沉淀。自來(lái)水和污垢的雜物是由于長(zhǎng)期使用導(dǎo)致熱水器產(chǎn)生的微生物而形成的。沉積物，雜質(zhì)和污垢會(huì)粘在水箱和真空管的壁上，形成溶解的水垢。

結(jié)垢不僅使家用熱水器，鍋爐和其他設(shè)備的導(dǎo)熱性極差，浪費(fèi)能源（電能或），給家庭經(jīng)濟(jì)造成負(fù)擔(dān)，還會(huì)使熱交換器過(guò)熱，縮短使用壽命甚至發(fā)生事故;水垢會(huì)堵塞水管并導(dǎo)致水流。，甚至更換水管，導(dǎo)致裝修損壞等后果！

因此，為了防止上述問(wèn)題的發(fā)生，請(qǐng)快來(lái)清洗管道！

鍋爐的清洗辦法

鍋爐的清洗辦法可分為人工打掃、機(jī)械辦法和化學(xué)清洗三大類。

①.人工打掃： 運(yùn)用身段瘦小的工人進(jìn)入鍋爐鏟刷污垢或用榔頭擊打，使水垢松動(dòng)墜落。這是一種早的清洗辦法，如今已多用；

②. 機(jī)械辦法：運(yùn)用帶金屬軟管和電動(dòng)的除垢器等刮隋；

③. 化學(xué)清洗： 運(yùn)用化學(xué)藥劑去除鍋爐中污垢的辦法。化學(xué)清洗是如今鍋爐清洗中應(yīng)用為普遍的一種辦法。

1．32鍋爐清洗的條件

《低壓鍋爐化學(xué)清洗導(dǎo)則》規(guī)矩，關(guān)于額定出口蒸汽壓力小于等于2．45MPa(25kgf／cm2)的蒸汽鍋爐和熱水鍋爐，當(dāng)契合下列狀況之一時(shí)，才可停止化學(xué)清洗。

1. 鍋爐受熱面被水垢掩蓋80％以上，而且平均水垢厚度抵達(dá)或逾越下列數(shù)值：無(wú)過(guò)熱器的鍋爐 1mm； 有過(guò)熱器的鍋爐 0.5mm； 熱水鍋爐 1mm。

2. 鍋爐受熱面有顯著的油污或鐵銹，而且每臺(tái)鍋爐酸洗時(shí)間距離應(yīng)不少于兩年。 《火力發(fā)電廠鍋爐化學(xué)清洗導(dǎo)則》(SDl35—86)規(guī)矩，直流爐和出口蒸汽壓力大于等于9．8MPa的汽包爐，在投產(chǎn)前有必要停止化學(xué)清洗；壓力在9．8MPa以下的汽包爐，除銹蝕嚴(yán)峻外，普通可不停止酸洗，但有必要堿煮。關(guān)于工作中的鍋爐，SDl35—86規(guī)矩，當(dāng)水冷壁管內(nèi)的污垢量或鍋爐化學(xué)清洗的距離時(shí)間逾越表18-26中的極限值時(shí)，就應(yīng)組織化學(xué)清洗。鍋爐化學(xué)清洗的距離時(shí)間，還可依據(jù)工作水質(zhì)的異常狀況和大修時(shí)鍋爐內(nèi)的檢查狀況，作恰當(dāng)改動(dòng)。以重油和自然氣為燃料的鍋爐和液態(tài)排渣爐，鍋爐的污垢極限招認(rèn)化學(xué)清洗。普通只清洗鍋爐本體。蒸汽流通局部能否停止化學(xué)清洗，應(yīng)按理論狀況決議。

化學(xué)清洗和安全知識(shí)

1 化學(xué)清洗

在半導(dǎo)體器件工藝實(shí)驗(yàn)中?；瘜W(xué)清洗是指去除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質(zhì)或油漬。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)助熔劑，使吸附在被清洗物體表面的雜質(zhì)和油類發(fā)生化學(xué)反應(yīng)溶解，或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施，將雜質(zhì)除去。從要清潔的物體。表面解吸（或解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，得到干凈的表面。

1.1 化學(xué)清洗的重要性

工藝實(shí)驗(yàn)中的每個(gè)實(shí)驗(yàn)都有化學(xué)清洗的問(wèn)題?；瘜W(xué)清洗的質(zhì)量對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果有嚴(yán)重影響。如果過(guò)程處理不當(dāng)，將得不到實(shí)驗(yàn)結(jié)果或?qū)嶒?yàn)結(jié)果很差。因此，了解化學(xué)清洗的作用和原理對(duì)工藝實(shí)驗(yàn)具有重要意義。眾所周知，半導(dǎo)體的重要特性之一是對(duì)雜質(zhì)非常敏感。只要有百萬(wàn)分之一甚至少量的雜質(zhì)，就會(huì)對(duì)半導(dǎo)體的物理性能產(chǎn)生影響。方法。各種功能半導(dǎo)體器件的制造。但也正是因?yàn)檫@個(gè)特點(diǎn)，給半導(dǎo)體器件的工藝實(shí)驗(yàn)帶來(lái)了麻煩和困難。用于清潔的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具和水可能成為有害雜質(zhì)的來(lái)源。即使是干凈的半導(dǎo)體晶圓更長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中也會(huì)引入明顯的污染物?；瘜W(xué)清洗是去除有害雜質(zhì)，保持硅片表面清潔。