手機(jī)真空納米鍍膜機(jī)的特點(diǎn)

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。

(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。

(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的原理及性能,你了解多少?

蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等片置于坩堝前方。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。電氣設(shè)備包括測量真空和膜層厚度及控制臺(tái)等。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時(shí)間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)常用蒸發(fā)源是用來加熱膜材使之汽化蒸發(fā)的裝置。真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)系統(tǒng)包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設(shè)備。

金屬帶鍍膜設(shè)備

HCMRC系列采用模塊化設(shè)計(jì)，是用于薄膜鍍膜的靈活生產(chǎn)工具。通過我們各種技術(shù)的獨(dú)特組合，可以生產(chǎn)高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應(yīng)用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設(shè)備采用公司新開發(fā)的磁控濺射鍍膜技術(shù)、陰極電弧離子鍍膜技術(shù)及獨(dú)特設(shè)計(jì)的離子源輔助沉積鍍膜技術(shù)等多種技術(shù)組合，成功應(yīng)用在大卷徑寬幅高真空連續(xù)卷繞鍍膜設(shè)備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴(kuò)展應(yīng)用范圍。

模塊化設(shè)計(jì)概念，帶材糾偏系統(tǒng)、等離子體預(yù)處理、磁控濺射系統(tǒng)、在線測量和工藝控制系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的良好選擇。

鍍膜前后的效果有哪些區(qū)別

沒有做涂層時(shí)的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時(shí)用柔軟的紙巾擦拭也會(huì)亂花(2)使用不到半個(gè)月鏡面就亂花或變霧(3)反復(fù)多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設(shè)備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產(chǎn)生小白點(diǎn)或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養(yǎng)時(shí)，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔(dān)心表面亂花(3)使用時(shí)間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍?cè)偈褂?5)無論生產(chǎn)效率，還是成本效益，都取得了很好的收益