氦質譜檢漏儀的真空系統(tǒng)

氦質譜檢漏儀真空系統(tǒng)一般包括：

1、主泵：一般用護散泵或渦輪分子泵。極限壓力小于5×10-4Pa，其抽速應導氣載匹配。

2、前級真空泵：一般采用旋片式機械真空泵，在以分子泵為主泵的系統(tǒng)中也有采用薄膜泵或干泵的。極限壓力小于1×10-1Pa，抽速導主泵匹配。

3、預抽真空泵：一般與前級真空泵共用一個泵，也有預抽真空泵的。預抽真空泵一般采用旋片式機械真空泵，其抽速視被檢件大小而定，因此預抽真空泵大都由用戶自配。

4、冷阱：分子泵型真空系統(tǒng)一般不加冷阱。護散泵型真空系統(tǒng)的冷阱加在質譜室、檢漏口與擴散泵之間，使三者被冷阱隔離。冷阱加入液氦(-196℃)后便可阻止擴散泵的油蒸氣和被檢件來的水蒸氣進入質譜室，保持質譜室的清潔，并幫助擴散泵迅速獲得較高真空。

氦質譜檢漏儀工作原理

氦質譜檢漏儀是根據(jù)質譜學原理制成的磁偏轉型的質譜分析計，用氦氣作為示漏檢測氣體制成的氣密性質譜檢漏儀器。其結構主要由進樣系統(tǒng)、離子源、質量分析器、收集放大器、冷陰極電離真空計等組成。離子源是氣體電離，形成一束具有特定能量的離子。質量分析器是一個均勻的磁場空間，不同離子的質荷比不同，在磁場中就會按照不同軌道半徑運動而進行分離，在設計時只讓氦離子飛出分析器的縫隙，打在收集器上。收集放大器收集氦離子流并送人到電流放大器，通過測量離子流就可知漏率。冷陰極電離真空計指示質譜室的壓力及用作保護裝置。

氦質譜檢漏儀的優(yōu)勢

科技信息化不斷更新迭代的市場，氦質譜檢漏儀的應用技術也在不斷發(fā)展和完善。一方面過去的氦質譜檢漏儀不能滿足現(xiàn)階段的一個需求，而且對檢漏儀提出新要求的情況下，檢漏儀設備不得不更新，另一方面每個行業(yè)的不足都在進步的過程，缺陷與不足相互補充，相互促進。而現(xiàn)在的氦質譜檢漏儀早已告別了四五十年代的初期情形，在性能和領域上都有新的突破。

氦質譜檢漏儀進展集中體現(xiàn)如下方面：

1.智能化：以往的氦質譜檢漏儀操作非常輔助，而現(xiàn)在的觸屏式，自動檢測。

2.便捷化：這幾年市場上各種小型便捷的檢漏儀能夠為行業(yè)提供小巧而靈敏性高的設備。

3.自動化程度高：自動校準氦峰，自動調節(jié)0點，量程自動轉換，自動數(shù)據(jù)處理，可外接打印機。整機由微機控制，菜單的選擇功能，一個按鈕即可完成全檢漏過程。

4.全無油的干式檢漏：有些國家生產的檢漏儀，可采用干式泵，達到無油蒸氣的效果，為無油系統(tǒng)及芯片等半導體器件的檢漏，提供了有利條件。

5.檢漏范圍寬：現(xiàn)今生產的四極檢漏儀，質量范圍很寬，不僅可檢測氦氣，而且能檢測其它氣體。

氦質譜檢漏儀的環(huán)境條件

氦質譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器，今天華誠浩達的小編就和大家來說一下，氦質譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些，希望對您有所幫助！

校準環(huán)境溫度為(23 ± 5) ℃ ，校準過程中室溫變化不超過± 1℃ ，環(huán)境相對濕度不大于80% 。

校準設備周圍應無明顯的溫差、氣流和強電磁場等外部干擾。

環(huán)境溫度較好控制在23℃ 附近，因為標準漏孔的出廠標稱漏率對應的環(huán)境溫度一般為23℃ 。