磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機(jī)殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機(jī)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時(shí)又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

真空PVD鍍膜機(jī)涂層在中有哪些應(yīng)用?

PVD涂層可提供更好的邊緣保持力，因此涂層手術(shù)器械仍保持清晰。對于其他設(shè)備，它們可以減少配套不銹鋼部件之間的磨損，并有助于防止氧化和腐蝕。通常是四種PVD涂層。的是氮化鈦（TiN），其厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，維氏硬度范圍為2,400至2,600Hv，以及金色。第二種常見的涂層是鋁鈦氮化物（AlTiN），通常稱為黑色氮化物或黑色鈦涂層。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度范圍為4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外兩種涂料是氮化鉻（CrN）和Alpha。CrN的厚度范圍為0.0001至0.0005英寸，硬度范圍為2,200至2,400Hv，銀色表面處理。Alpha是一種多層涂層，其頂層具有氮化鋯（ZrN）并產(chǎn)生銀-金色。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度，范圍為4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，潤滑性和耐磨性，這種涂層可以比TiN長兩到四倍。

中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹姟Ｒ虼?，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣象沉積，一種是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學(xué)薄膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時(shí)硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴(kuò)散出來的碳會與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題，不會產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。