微弧氧化原理

       微弧氧化或等離子體電解氧化表面陶瓷化技術(shù)，是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上，微弧氧化技術(shù) 利用弧光放電增強(qiáng)并ji活在陽極上發(fā)生的反應(yīng)，從而在以鋁、鈦、鎂等金屬及其合金為材料的工件表面形成的強(qiáng)化陶瓷膜的方法，微弧氧化電源是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓，微弧氧化使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達(dá)到工件表面強(qiáng)化的目的。微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術(shù)，微弧氧化技術(shù)是近十幾年在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，但兩者在機(jī)理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。

?微弧氧化工藝要求

      微弧氧化通過電源參數(shù)的靈活運(yùn)用，微弧氧化電解液的特殊匹配，在鈦合金零件表面原位制備微弧氧化陶瓷膜的強(qiáng)化處理，達(dá)到防腐、提高發(fā)射率、耐磨、高絕緣等性能要求。微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術(shù)。根據(jù)實(shí)際加工時(shí)的工況，如復(fù)雜形狀工件、只對工件局部進(jìn)行微弧氧化處理、大面積工件的表面微弧氧化處理等情況，可采取特殊的工裝卡具及對工件進(jìn)行局部采取屏蔽，大大提高工效和降低成本。微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化

       微弧氧化，是在電解質(zhì)溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓（直流、交流或脈沖）在材料表面原位生長陶瓷氧化膜的過程，該過程是物理放電與電化學(xué)氧化、等離子體氧化協(xié)同作用的結(jié)果。盡管微弧氧化技術(shù)已經(jīng)在這些方面有些應(yīng)用，并且呈現(xiàn)新的應(yīng)用前景，但是推廣應(yīng)用的力度還不夠，這里包括技術(shù)和經(jīng)濟(jì)等多方面原因，有待于我們進(jìn)一步深入研究。微弧氧化技術(shù)是在普通陽極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，進(jìn)一步提高電壓，使電壓超出法拉第區(qū)，達(dá)到氧化膜的擊穿電壓，就會(huì)在陽極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的，又保持了陽極氧化膜與基體的結(jié)合力。

      微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術(shù)。2、隨著氧化時(shí)間的增加，工業(yè)鋁型材表面微孔密度降低，但粗糙度變大。微弧氧化原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質(zhì)水溶液中作為陽極，利用電化學(xué)方法在該材料的表面產(chǎn)生火花放電斑點(diǎn)，在熱化學(xué)、等離子體化學(xué)和電化學(xué)的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術(shù)。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化工藝