用途：

可用于有色金屬的冶煉和鑄造工藝，也可用于鋁及其合金熔融物的脫氣和純化。加有六氟化硫的電流遮斷器額定電壓高，且不易i燃燒，另外，六氟化硫還用于各種加su器、超高壓蓄電器、同軸電纜和微波傳輸?shù)慕^緣介質(zhì)。在微電子業(yè)中，可用六氟化硫蝕刻硅表面并去除半導(dǎo)體材料上的有機(jī)或無機(jī)膜狀物，并可在光導(dǎo)纖維的制造過程中，作為單膜光纖隔離層摻雜劑。加有六氟化硫的電流遮斷器額定電壓高，且不易i燃燒，另外，六氟化硫還用于各種加su器、超高壓蓄電器、同軸電纜和微波傳輸?shù)慕^緣介質(zhì)。目前六氟化硫是應(yīng)用較為廣泛的測(cè)定大氣污染的示蹤劑，示蹤距離可達(dá)100km。六氟化硫化學(xué)穩(wěn)定性好，對(duì)設(shè)備不腐蝕，在冷凍工業(yè)中可作為冷凍劑(操作溫度在-45～0℃之間)，作制冷劑替代氟利昂，對(duì)臭氧層完全沒有破i壞作用，符合環(huán)保和使用性能的要求，是一種很有發(fā)展?jié)摿Φ闹评鋭?。用作電氣絕緣介質(zhì)和滅弧劑，測(cè)定大氣污染程度的示蹤劑。

充裝六氟化硫氣體嚴(yán)禁水分進(jìn)入

（1）工作未開始之前，首先應(yīng)測(cè)定現(xiàn)場(chǎng)周圍環(huán)境空氣相對(duì)濕度≤80％（即空氣中水蒸汽密度和同溫度下飽和水蒸汽密度比的百分值），這是限制空氣含水具體示數(shù)。測(cè)定如不合格，則應(yīng)采取措施或重選干燥晴朗的天氣進(jìn)行充裝。

 （2）為使SF6泄漏氣體及時(shí)排換，主尖在進(jìn)行充裝的同時(shí)開啟通風(fēng)機(jī)，認(rèn)真遵守空氣SF6含量不得超過1000ppm的規(guī)定。六氟化硫防護(hù)是保護(hù)工作人員的必備措施，不光是定期檢查SF6鋼瓶、高壓SF6設(shè)備還是穿著六氟化硫防護(hù)服都屬于六氟化硫防護(hù)的內(nèi)容。在工作開始后的一定時(shí)間內(nèi)即應(yīng)進(jìn)行檢測(cè)，并具體情況于中途再進(jìn)行檢側(cè)。當(dāng)出現(xiàn)SF6氣體含量增i高或超過標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，應(yīng)隨即對(duì)部件進(jìn)行詳細(xì)檢查，查找原因并予以消除。

高純六氟化硫的應(yīng)用

 六氟化硫的使用可以增加設(shè)備運(yùn)行的安全性、縮小設(shè)備體積、延長設(shè)備壽命。近幾年，國家大力發(fā)展基礎(chǔ)電力行業(yè)，給六氟化硫廠家?guī)砹撕艽蟮氖袌?chǎng)機(jī)遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國內(nèi)需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導(dǎo)體工業(yè)中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來，各公司以廉價(jià)的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術(shù)正被廣泛研究。

 該技術(shù)在大幅降低液晶產(chǎn)品加工中占相當(dāng)比例的CVD氣體成本的同時(shí)，還顯示出了極i佳的環(huán)保前景，近年來用量有明顯的提高。

 據(jù)權(quán)i威機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2010年我國將成為僅次于美國的世界第二大集成電路市場(chǎng)，總需求量約為500億美元。目前國內(nèi)使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線約有50條左右預(yù)計(jì)。2016年將達(dá)到700噸左右，

 國內(nèi)使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線有近50條，在未來的五年預(yù)計(jì)將有20條至30條新線建成。1、直接合成法經(jīng)凈化后的氟（含HF≤0．5%）和硫反應(yīng)生成六氟化硫及少量的S2F10、SF4、SF2和S2F2。每年約消耗高純六氟化硫?yàn)?00噸左右。而國內(nèi)高純六氟化硫產(chǎn)品遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足市場(chǎng)需求，半導(dǎo)體廠家所用高純產(chǎn)品大部分依賴進(jìn)口，這給高純六氟化企業(yè)提供更多的發(fā)展機(jī)遇。