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適用于低本底αβ測(cè)量儀的藍(lán)光雙閃晶體勘探器是怎么樣的呢?
本實(shí)用新型供給一種于低本底αβ測(cè)量儀藍(lán)光雙閃晶體勘探器,包含順次相銜接的勘探器,光電倍增管,前置放大器,所述前置放大器與操控端進(jìn)行銜接,所述勘探器包含塑料閃耀體,避光層,所述避光層盤繞塑料閃耀體外圍,并向塑料閃耀體的前方凸出.所述于低本底αβ測(cè)量儀藍(lán)光雙閃晶體勘探器經(jīng)過設(shè)置的塑料閃耀體能夠有顯著效果地的對(duì)α,β進(jìn)行一起檢測(cè),互不影響,一起塑料閃耀體產(chǎn)品外表涂層結(jié)實(shí),是低本底αβ檢測(cè)儀中核心部件,與低噪聲的光電倍增管地點(diǎn)的光波敏感區(qū)域緊契合,不怕污染,可清洗.
低本底αβ測(cè)量儀觸及輻射丈量技術(shù)領(lǐng)域,詳細(xì)公開了一種適用于四路低本底αβ測(cè)量儀的反契合設(shè)備,包含四個(gè)主勘探器,三個(gè)反契合勘探器,設(shè)于主勘探器和反契合勘探器之間的樣品盤抽拉設(shè)備以及反契合晶體.本發(fā)明針對(duì)四路低本底αβ測(cè)量儀,挑選三個(gè)反契合勘探器兩兩等距離擺放進(jìn)行勘探,在統(tǒng)籌經(jīng)濟(jì)的前提下,有用降低了本底,確保了儀器弱小水平的準(zhǔn)確丈量.
低本底技術(shù)指標(biāo)
(1)探測(cè)器:φ75mm×75mm的NAL晶體
(2)總道數(shù):512、1024、2048、4096道任選,實(shí)際應(yīng)用道數(shù):2048道
(3)能量分辨率:<7.5%(137Cs)
(4)微分非線性:<0.05%
(5)積分非線性:<0.1%
(6)直流電源紋波:≤1mVrms
(7)高壓電源紋波:≤20mV
(8)系統(tǒng)穩(wěn)定性:≤1%
(9)數(shù)據(jù)通過率:>333kcps
(10)脈沖對(duì)分辨率:500ns
(11)分析誤差:符合GB6566-2010《礦產(chǎn)地質(zhì)分析測(cè)試實(shí)驗(yàn)室質(zhì)量保證規(guī)范》(EJ/T751-93)的要求
(12)分析范圍238U:(37~1×106)Bg226Ra:(37~1×106)Bg232Th:(12~4×105)Bg40K:0.1%~100%
(13)測(cè)量不確定度(樣品活度>37Bq)<10%
(14)使用條件溫度: 5℃~ 35℃濕度:≤90%電源:220V±10PHz
(15)鉛屏蔽室尺寸及重量:680mm×105mm×235mm900kg37~1×106)Bg232Th:(12~4×105)Bg40K:0.1%~100%
低本底αβ測(cè)量儀對(duì)保護(hù)地下水資源有哪幾點(diǎn)防治措施?
一是工業(yè)污染物的不合理排放。某些企業(yè)為下降處理本錢而偷排偷放的行為時(shí)有發(fā)生,不只使河流水體遭到污染,也直接影響到地下水水質(zhì)。此外,有些企業(yè)悄然掩埋危險(xiǎn)廢物,而這些污染物卻沒有一點(diǎn)防滲、防淋、防丟掉方法。
二是跟著城市化進(jìn)程加快,城鎮(zhèn)人口繼續(xù)不斷的增加,城市污水排放量大幅上升,而有些當(dāng)?shù)毓芫W(wǎng)制作相對(duì)滯后或保護(hù)保養(yǎng)不及時(shí),管網(wǎng)漏損導(dǎo)致污水外滲進(jìn)入地下水體構(gòu)成污染。此外,城市化進(jìn)程也對(duì)廢物處理構(gòu)成巨大壓力,有些廢物填埋場三防方法不到位,廢物滲濾液極易構(gòu)成地下水污染。
三是農(nóng)業(yè)面源污染?,F(xiàn)在,化肥在耕耘中運(yùn)用嚴(yán)峻。據(jù)統(tǒng)計(jì),我國單位耕地面積化肥及運(yùn)用量分別為世界平均水平的2.8倍和3倍,其中有恰當(dāng)一部分化肥未被農(nóng)作物吸收,而是跟著降水進(jìn)入地下,污染了土壤和地下水體。此外,現(xiàn)在我國大部分村莊環(huán)境保護(hù)短少環(huán)保原則和規(guī)劃,日子廢物隨意堆積,畜禽糞便隨意排放,這些都直接挾制地下水水質(zhì)安全。
低本底
低本底測(cè)量儀應(yīng)根據(jù)數(shù)據(jù)的處理方面,應(yīng)該延伸丈量樣品的時(shí)刻,該儀器可用于低水平αβ樣品丈量,并可區(qū)別αβ粒子.論述了αβ雙閃耀體勘探器的主要參數(shù)和先進(jìn)的數(shù)字化電路規(guī)劃思路,給出了儀器αβ本底水平,串道比,αβ功率等物理性能的測(cè)驗(yàn)?zāi)繕?biāo).描繪了儀器軟件主動(dòng)坪曲線丈量,主動(dòng)刻度等功能的規(guī)劃.本實(shí)用新型供給一種用于低本底αβ測(cè)量儀藍(lán)光雙閃晶體勘探器,包含順次相銜接的勘探器,光電倍增管,前置放大器,所述前置放大器與操控端進(jìn)行銜接,所述勘探器包含塑料閃耀體,避光層,所述避光層盤繞塑料閃耀體外圍