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低電壓微弧氧化技術(shù)全國(guó)發(fā)貨【日照微弧技術(shù)】

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-16 18:11  






       微弧氧化技術(shù)又稱微等離子體氧化或陽(yáng)極火花沉積,實(shí)質(zhì)上是一種高壓的陽(yáng)極氧化,是一種新型的金屬表面處理技術(shù)。(2)涂膜厚度均勻,附著力強(qiáng),涂裝質(zhì)量好,工件各個(gè)部位如內(nèi)層、凹陷、焊縫等處都能獲得均勻、平滑的漆膜,解決了其他涂裝方法對(duì)復(fù)雜形狀工件的涂裝難題。該工藝是在適當(dāng)?shù)拿}沖電參數(shù)和電解液條件下,使陽(yáng)極表面產(chǎn)生微區(qū)等離子弧光放電現(xiàn)象,,陽(yáng)極上原有的氧化物瞬間熔化,,同時(shí)又受電解液冷卻作用, 進(jìn)而在金屬表面原位生長(zhǎng)出陶瓷質(zhì)氧化膜的過(guò)程。微弧氧化表面處理、微弧氧化、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)


       與普通的陽(yáng)極氧化膜相比, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,與基質(zhì)結(jié)合緊密, 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。美國(guó)五十年代在某些兵工廠開始研究陽(yáng)極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨(dú)立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來(lái)微弧氧化研究已成為國(guó)際研究熱點(diǎn)并開始應(yīng)用,九十年代初國(guó)內(nèi)開始起步。微弧氧化技術(shù)生成的膜層綜合性能優(yōu)良,與基體結(jié)合牢固, 且工藝簡(jiǎn)單,對(duì)環(huán)境污染小, 目前對(duì)其生長(zhǎng)規(guī)律、生長(zhǎng)機(jī)理和影響因素等已經(jīng)有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應(yīng)用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術(shù)。微弧氧化技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)中應(yīng)用匯越來(lái)越廣泛。


微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

1.微弧氧化工藝穩(wěn)定可靠,設(shè)備簡(jiǎn)單,反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,操作方便,易于掌握。

2.微弧氧化膜有良好的耐磨損性能。

3.微弧氧化膜有良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應(yīng)用中的缺點(diǎn),因此該技術(shù)有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化設(shè)備



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