液體成分對微弧氧化的影響

      電解液成分是得到合格膜層的關(guān)鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。微弧氧化原理是在工件表面生成陽極化膜的同時，通過微電弧瞬時7000K高溫把極化膜轉(zhuǎn)為陶瓷相。在相同的微弧電解電壓下，電解質(zhì)濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化電源生產(chǎn)線、微弧氧化電液槽

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溶液冷卻和攪拌系統(tǒng)在微弧氧化過程中，會在工件表面產(chǎn)生瞬時高溫高壓，為了及時能帶走產(chǎn)生的熱量及平衡穩(wěn)定氧化槽的溫度，必須配備外循環(huán)和熱交換方式，溶液的循環(huán)同時達到攪拌和冷卻槽液的目的。溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強的導(dǎo)電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化抹的特點

       微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結(jié)合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄，要求對放電后的電參數(shù)控制比較好，大電流、高電壓對供電電源提出了高要求，由于對微弧氧化本質(zhì)認識限制，使得電源的設(shè)計及制造仍停留在經(jīng)驗摸索層面上，帶有很大的盲目性。1、微弧氧化采用弱堿性溶液，對周圍環(huán)境不造成污染，屬于清潔加工工藝和環(huán)保型表面處理技術(shù)，微弧氧化中只放出氫氣、氧氣，對人體無害。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源