電鍍工藝的分類(lèi)與流程說(shuō)明

真空ip電鍍工藝廣泛應(yīng)用在國(guó)民生產(chǎn)的各個(gè)領(lǐng)域,只有認(rèn)真操作才能有效節(jié)約能源、保護(hù)環(huán)境。在以下簡(jiǎn)單介紹一下有關(guān)電鍍工藝的一些基本知識(shí)。電鍍工藝的分類(lèi):酸性光亮銅電鍍電鍍鎳/金電鍍錫。

真空ip電鍍工藝流程:浸酸→全板電鍍銅→酸性除油→微蝕→浸酸→鍍錫→浸酸→圖形電鍍銅→鍍鎳→浸檸檬酸→鍍金。

真空電鍍可以鍍出漂亮金屬鍍膜層

通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件外表堆積各種金屬和非金屬薄膜，真空電鍍加工是指專(zhuān)業(yè)對(duì)對(duì)塑膠、陶瓷、玻璃、樹(shù)脂、五金等各類(lèi)產(chǎn)品進(jìn)行外表處置的工廠。

真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類(lèi)型。

真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類(lèi)型。指在真空條件下。通過(guò)這樣的方式得到非常薄的外表鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。

在表面處理工藝上，真空電鍍成為環(huán)保新趨勢(shì)。更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染排放的特點(diǎn)，與一般電鍍不同，真空電鍍更加環(huán)保，可以生產(chǎn)出普通電鍍無(wú)法達(dá)到的光澤度很好的黑色效果。

1、定義

因鍍膜機(jī)在真空狀態(tài)下蒸發(fā)靶材生成鍍層，故將此制程稱為真空電鍍。

2、原理

其過(guò)程是在真空條件下，采用低電壓、高電流的方式將蒸源通電加熱，靶材在通電受熱的情況下分散到工件表面，并以不定形或液態(tài)狀沉積在工件表面，冷卻成膜的過(guò)程

3、分類(lèi)

真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。

重要工序工藝說(shuō)明

　　1) 待鍍啤件: 真空電鍍對(duì)啤件要求特別高,如:

　　a) 要求啤件表面清潔,無(wú)油漬﹑污漬.

　　b) 要求啤件表面粗糙度盡可能低.

　　c) 啤件內(nèi)應(yīng)力要盡可能低﹐內(nèi)外轉(zhuǎn)角要倒圓角﹒啤塑時(shí)要用較低的注射壓力﹐較高的

　　模溫﹑料溫﹐以及盡可能慢的注射速度﹒

　　d) 啤件外型應(yīng)利于獲得均勻的鍍層﹐如較大平面中間要微突起(突起度約 0.1~0.15mm/cm)

　　e) 啤件壁厚要適當(dāng)﹐太薄的件易變形使鍍層附著力不好﹐太厚的件易縮水使外觀受影響﹒一般來(lái)講﹐薄壁不宜小于0.9mm﹐厚壁不宜超過(guò)3.8mm﹒