光刻技術(shù)，重頭戲是物理技術(shù)，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學(xué)技術(shù)，對(duì)機(jī)器要求不算高。唯獨(dú)曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機(jī)，也就是一只巨型單反相機(jī)，其光源和鏡頭，還有控制技術(shù)估計(jì)已經(jīng)是人類的極限了，巨難做?？涛g說得形象點(diǎn)就是沿著曝光圖形刻槽，化學(xué)成分比較大，并不算十分關(guān)鍵的設(shè)備，我朝的刻蝕機(jī)技術(shù)還是很不錯(cuò)的。

激光蝕刻機(jī)

相對(duì)于傳統(tǒng)的濕法蝕刻，激光蝕刻不直接接觸材料表面、CAD圖紙直寫，無須掩模，因此可靠性更強(qiáng)，良率更高，一致性更好，蝕刻線寬大小可調(diào)，圖形任意，該技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于觸摸屏，LCD，PDP，電子書，OLED等工業(yè)生產(chǎn)。而在其他應(yīng)用領(lǐng)域，尤其是一些更高要求的多層次材料的選擇性蝕刻，是其他傳統(tǒng)方法無法做到的。

蝕刻機(jī)、金屬蝕刻機(jī)、金屬腐蝕機(jī)應(yīng)用范圍:

適用于、金屬標(biāo)牌，薄板金屬電子零部件（如手機(jī)金屬按鍵面板、金屬網(wǎng)片、精密過濾網(wǎng)等）加工制造。蝕刻精度：根據(jù)制版而定 制版0.2微米

蝕刻機(jī)（金屬蝕刻機(jī)、腐蝕機(jī)）特點(diǎn)：

1、采用傳動(dòng)裝置，霧化噴淋，結(jié)構(gòu)合理；加工尺寸長度不限制，速度快、精度高；

2、使用方便：有效地設(shè)計(jì)噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度；蝕刻效果、速度和操作者的環(huán)境及方便程度等方面都有改善；藥液使用充分，大大降低生產(chǎn)成本；

3、蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高：經(jīng)反復(fù)實(shí)驗(yàn)噴射壓力在1-2 kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉

4、可根據(jù)客戶要求，有針對(duì)的定制非標(biāo)尺寸和性能：如搖擺式、窗式、抽拉式、轉(zhuǎn)盤式、曲面式、傾斜面式、冷卻（空調(diào)冷卻或加水循環(huán)冷卻）等

5、可組配蝕刻線：顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、退膜機(jī)

6、批量標(biāo)牌制作流水作業(yè)：配備自動(dòng)烘干烤箱，自動(dòng)雙面顯影機(jī)，自動(dòng)上色機(jī)，制版機(jī)，電鍍機(jī)。