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脈沖激光沉積細(xì)節(jié)介紹
很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力(>100 Torr)下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統(tǒng)設(shè)計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。
Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°,保持了激光密度在靶材上的均勻性,同時避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點(diǎn),導(dǎo)致密度均勻性的損失。
為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體,消除油的回流對薄膜質(zhì)量的影響,所有Pioneer 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無油真空系統(tǒng)。
我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離,對沉積條件進(jìn)行較大的控制。
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脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點(diǎn)有哪些?
? 超高真空不銹鋼腔體
? 可集成熱蒸發(fā)源或?yàn)R射源
? 可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺
? 流量計或針閥準(zhǔn)確控制氣體流量
? 標(biāo)準(zhǔn)真空計? 干泵與分子泵
? 可選配不銹鋼快速進(jìn)樣室
? 可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)
? 是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設(shè)備
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