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氦質(zhì)譜檢漏儀
設(shè)備是產(chǎn)生、改善并維持真空的裝置,包括真空應(yīng)用設(shè)備及真空獲得設(shè)備。若器件有漏,則通過該漏孔壓人的氦氣又釋放出來進(jìn)入檢漏罐,終到達(dá)質(zhì)譜管。真空系統(tǒng)設(shè)備的真空系統(tǒng)是核心,主要由真空獲得、真空測量、真空腔體(或容器)以及控制輔助等部件(如真空閥門、管道等)。其在使用過程中如果真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢都會影響企業(yè)的生產(chǎn)效
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氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏率
機器的性能支持幾秒一次的高頻率測試
配有檢漏口精細(xì)過濾器,過濾細(xì)微雜質(zhì),確保機器不受雜質(zhì)影響和損傷
雙銥絲離子源,有效的系統(tǒng)設(shè)計,防大氣沖擊
支持定制檢漏工作臺,更加便捷使用
可檢漏率(負(fù)壓模式) 5×10-13Pa?m3/s
可檢漏率(正壓模式) 1×10-8Pa?m3/s
氦較除氫以外的其他氣體通過同一漏孔的漏率就大,容易發(fā)現(xiàn),靈敏度高。氦質(zhì)譜檢漏儀高壓強下檢漏:檢漏口壓強可高達(dá)數(shù)百帕左右,對檢測大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。氦是惰性氣體,不與被檢件器壁起化學(xué)反應(yīng),不會污染被檢件,使用安全。在氦兩側(cè)的是氫(質(zhì)荷比為2)和雙電荷原子碳(質(zhì)荷比為6),質(zhì)荷比都與氦相差較大。這樣,它們在分析器中的偏轉(zhuǎn)半徑相差也大,容易分開,定標(biāo)找氦峰時,不易受其他離子的干擾