真空鍍膜機(jī)的全新發(fā)展真空泵與隔膜泵機(jī)械密封的安裝與使用

真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費(fèi)用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。

以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例，剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達(dá)2253mm?；木硗驳拇缶韽绞?000mm，大卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)間占整個(gè)周期的75%，輔助操作時(shí)間只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用，卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著高度自動(dòng)化和高度可靠性的方向發(fā)展。

真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2，可以在這個(gè)范圍內(nèi)選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室，左下室和右下室。蒸鍍時(shí)，兩組蒸發(fā)源蒸發(fā)的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上，在塑料薄膜沒(méi)有蒸鍍的一側(cè)，裝上輝光放電發(fā)生器。發(fā)生器產(chǎn)生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無(wú)折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽(yáng)能電池等。

真空鍍膜機(jī)中電磁控制的發(fā)展

真空鍍膜機(jī)在現(xiàn)在對(duì)產(chǎn)品的表面處理上具有的優(yōu)勢(shì)還是比較明顯的，這種鍍膜機(jī)械比起其他的表面處理設(shè)備來(lái)說(shuō)，在加工方面，本身是需要在真空的環(huán)境中進(jìn)行的，這樣的鍍膜方式就把外界的一些影響因素給“屏蔽”了，這是這種真空鍍膜機(jī)的一個(gè)優(yōu)勢(shì)之處。

而對(duì)于真空鍍膜機(jī)械來(lái)說(shuō)，目前的電路的發(fā)展也十分迅速，很多電子化的產(chǎn)品也被運(yùn)用到電路當(dāng)中，也使得這些機(jī)械逐漸發(fā)展成為了電動(dòng)化、自動(dòng)化的設(shè)備。

其中濺控濺射鍍膜機(jī)就是比較好的一類代表，作為一種裝置來(lái)說(shuō)，它也是體現(xiàn)出真空鍍膜技術(shù)先進(jìn)手段的代表，利用磁力進(jìn)行控制，通電產(chǎn)生的電磁效用等都對(duì)鍍膜技術(shù)進(jìn)行輔助。

可以說(shuō)是目前表面處理技術(shù)中值得關(guān)注的一類，而電磁控制的鍍膜機(jī)械的產(chǎn)生對(duì)現(xiàn)在的鍍膜設(shè)備來(lái)說(shuō)，提高了鍍膜時(shí)候膜層的粒子量，這是這種鍍膜機(jī)械的主要運(yùn)用了。

真空鍍膜機(jī)和蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)的差異

真空鍍膜機(jī)是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門(mén)，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門(mén)上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。真空鍍膜機(jī)一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。

當(dāng)薄膜運(yùn)行速度達(dá)到一定數(shù)值后，打開(kāi)擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。

通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動(dòng)速度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備，鍍出的膜層牢固且細(xì)密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其特點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無(wú)三廢、無(wú)污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備，無(wú)須環(huán)保部門(mén)審批。分為立式和臥式。

蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對(duì)環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產(chǎn)的理想設(shè)備。離子真空鍍膜機(jī)是當(dāng)今世界上用于表面涂裝PVD膜層的先進(jìn)專用設(shè)備,運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達(dá)到人機(jī)對(duì)話，簡(jiǎn)便。

真空鍍膜機(jī)濺鍍的原理

以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子炮擊資料外表，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電(glowdischarge)發(fā)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓發(fā)生放電，正離子會(huì)炮擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。

正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體品種壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡也許保持其安穩(wěn)。任何資料皆可濺射鍍膜，即便高熔點(diǎn)資料也簡(jiǎn)單濺鍍，但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2，非金屬<5W/cm2

二極濺鍍射：靶材為陰極，被鍍工件及工件架為陽(yáng)極，氣體(Ar氣Ar)壓力約幾Pa或更高方可得較高鍍率。

磁控濺射：在陰極靶外表構(gòu)成一正交電磁場(chǎng)，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而進(jìn)步離子密度，使得濺鍍率進(jìn)步(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是現(xiàn)在有用的鍍膜技能之一。