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茶山手機(jī)殼LOGO曝光顯影工藝點(diǎn)擊了解更多

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-05 07:59  

實(shí)際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時(shí)間確定,正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準(zhǔn);線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9--13格。

曝光時(shí)必須抽真空充分,以免曝光不良,一般要求650mmHg以上真空度;

顯影時(shí),顯影點(diǎn)控制在50 --70%以內(nèi),壓力1.5--2.0kg/cm2。

曝光過(guò)度會(huì)導(dǎo)致顯影不凈;曝光能量不足會(huì)導(dǎo)致顯影過(guò)度。




以下是顯性版顯像的關(guān)鍵性步驟,您看看哈,希望對(duì)您有所幫助,調(diào)制顯像dao劑:顯像劑:水(1:80),即1包20g的顯像劑配1600毫升水,可顯影約8片10x15cm單面感光板(礦泉水瓶上面一般標(biāo)有容量,可參照,調(diào)顯像劑請(qǐng)用塑料盆,不能用金屬盆)顯像:膜面朝上放入感光板(雙面板須懸空)每隔數(shù)秒搖晃容器或感光板,直到銅箔清晰且不再有綠色霧狀冒起時(shí)即顯像完成。


干膜顯影性不良,超期使用。上述已講過(guò)光致抗蝕干膜,其結(jié)構(gòu)有三部分構(gòu)成:聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜。在紫外光照射下,干膜與銅箔板表面之間產(chǎn)生良好的粘結(jié)力,起到抗電鍍和抗蝕刻的作用。圖形電鍍過(guò)程中,引起的滲鍍的原因分析如下:圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點(diǎn)bai,也是技術(shù)難點(diǎn),其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。



銀鹽CTP版材由鋁基、物理顯影核層與鹵化銀感光層組成,版材經(jīng)曝光后,使用顯定合一的加工處理液,在曝光部分的鹵化銀發(fā)生化學(xué)顯影的同時(shí),未曝光部分的鹵化銀被加工液中的銀絡(luò)合劑絡(luò)合成可自由移動(dòng)的絡(luò)合銀離子,并擴(kuò)散轉(zhuǎn)移到物理顯影核層,由顯影劑還原成銀.用水洗液將乳劑層洗去后,露出附著在鋁基上的物理顯影銀影像.在印刷時(shí),該影像區(qū)呈現(xiàn)親油性,非影像區(qū)為親水性,這樣便可實(shí)現(xiàn)圖文由印刷版向紙張的轉(zhuǎn)移.


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