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實(shí)際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時(shí)間確定,正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準(zhǔn);線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9--13格。
曝光時(shí)必須抽真空充分,以免曝光不良,一般要求650mmHg以上真空度;
顯影時(shí),顯影點(diǎn)控制在50 --70%以內(nèi),壓力1.5--2.0kg/cm2。
曝光過(guò)度會(huì)導(dǎo)致顯影不凈;曝光能量不足會(huì)導(dǎo)致顯影過(guò)度。
干膜顯影性不良,超期使用。上述已講過(guò)光致抗蝕干膜,其結(jié)構(gòu)有三部分構(gòu)成:聚酯薄膜、光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜。在紫外光照射下,干膜與銅箔板表面之間產(chǎn)生良好的粘結(jié)力,起到抗電鍍和抗蝕刻的作用。圖形電鍍過(guò)程中,引起的滲鍍的原因分析如下:圖形轉(zhuǎn)移是制造高密度多層板的關(guān)鍵控制點(diǎn)bai,也是技術(shù)難點(diǎn),其質(zhì)量的優(yōu)劣直接影響多層板的合格率。