在一個(gè)操作間，機(jī)器以及機(jī)器周圍走動(dòng)的人員，會(huì)對(duì)氣流形成障礙。障礙物可以使單向流變成紊流，從而在障礙物周圍形成氣流團(tuán)。人員的活動(dòng)也可以使單向流變成紊流。在這些紊流中，由于風(fēng)速較低，空氣稀釋程度較小，從而使得污染濃度較高。因此，必須將風(fēng)速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的范圍里，以便使中斷的單向流能快速恢復(fù)，充分稀釋障礙物周圍紊流區(qū)的污染。用風(fēng)速可以正確地表示出單向流，因?yàn)轱L(fēng)速越高室內(nèi)就越潔凈。而每小時(shí)換氣次數(shù)與房間的體積有關(guān)，如吊頂?shù)母叩?，因此不適合用來表示單向流。

    對(duì)于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：

    1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

    2.潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。

    壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。

    光學(xué)微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，已是半導(dǎo)體、精密制造、液晶制造、光學(xué)制造、線路板制造和生物化學(xué)、、食品制造等行業(yè)不可或缺的重要設(shè)施。近幾年來，由于技術(shù)之發(fā)展，對(duì)于產(chǎn)品的高精密度化、細(xì)小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發(fā)展上極為重視的項(xiàng)目，而我公司的設(shè)計(jì)理念及施工技術(shù)在行業(yè)中則處于地位。

    在進(jìn)行潔凈室凈化工程的平面布局時(shí)有必要契合國家的現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)中有關(guān)安全出產(chǎn)、消防、環(huán)保和工作衛(wèi)生方面的各種要求；在進(jìn)行潔凈室凈化工程平面布局時(shí)應(yīng)充分考慮、物流的安排．極力做到短捷、流暢。在空間規(guī)劃時(shí)應(yīng)分考慮產(chǎn)品出產(chǎn)過程和潔凈室凈化工程裝飾內(nèi)各種管線、物流運(yùn)送的合理安排。在確定潔凈廠房的平面、空間安置后，對(duì)潔凈室凈化工程規(guī)劃涉及的各個(gè)專業(yè)提出規(guī)劃內(nèi)容、技能要求及規(guī)劃中應(yīng)留意的相關(guān)問題。