300D三源有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無(wú)機(jī)薄膜太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、 真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測(cè)試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa（短時(shí)間暴露 大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣）

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發(fā)源：3套

4套擋板系統(tǒng)：擋板共有3套，動(dòng)密封手動(dòng)控制；

氣路系統(tǒng):質(zhì)量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)

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電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)介紹

通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用電阻式蒸發(fā)原理，利用大電流在蒸發(fā)舟上加熱所蒸鍍材料，使其在高溫下熔化蒸發(fā)，從而在樣品上沉積所需要的薄膜。通過(guò)調(diào)節(jié)所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率。通常適合熔點(diǎn)低于1500oC的金屬薄膜的制備。

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