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廣州創(chuàng)勵(lì)友機(jī)械設(shè)備有限公司主要生產(chǎn)銷售、LCD,LED維修設(shè)備及各種自動(dòng)化設(shè)備的高新技術(shù)企業(yè),邦定機(jī)、壓屏機(jī)、打線機(jī)、鐳射打線,亮線修復(fù) 鐳射激光修復(fù)機(jī)廠家。鐳射打線機(jī)廠家
1.可耐溫度變化的鐳射頭
鐳射共振器采用double linear bush 設(shè)計(jì),可降低光路變化。
2.抗震性強(qiáng)的鐳射頭
采用高剛性材料制作外殼,強(qiáng)度達(dá)到HCL2100/3000系列的2倍以上。
X或Y方向的移動(dòng)有很高的穩(wěn)定性。
3.密閉激光覆蓋
加強(qiáng)保護(hù)抑制激光長期產(chǎn)生的灰塵。
4.高精度的可變換輸出功率鐳射系統(tǒng)
降低機(jī)組件的后座力。
通過專門的軟體達(dá)到Linesr變化功率輸出的可能。
5.高精度的電動(dòng)Slit
為確保修補(bǔ)位置與范圍書面上可顯示電子Line,以能準(zhǔn)確無誤地作鐳射照射加工。
降低機(jī)構(gòu)的后座力,可的重復(fù)先前的直線動(dòng)作。
6.多功能控制臺(tái)
可結(jié)合操作人員所有功能需求。
可記憶四組常用的加工條件。
本公開涉及一種液晶顯示屏及應(yīng)用于液晶顯示屏的接近光實(shí)現(xiàn)裝置和方法,屬于電子技術(shù)領(lǐng)域,不僅能夠在亮屏狀態(tài)下而且還能夠在黑屏狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)接近光功能。該裝置包括:檢測模塊,用于檢測所述液晶顯示屏是否處于黑屏狀態(tài);以及驅(qū)動(dòng)模塊,用于在所述檢測模塊檢測到所述液晶顯示屏黑屏狀態(tài)下,驅(qū)動(dòng)所述液晶顯示屏的局部薄膜晶體管啟動(dòng),以使得接近光區(qū)域中的液晶分子翻轉(zhuǎn)。鐳射打線機(jī)廠家
隨著液晶技術(shù)的高速發(fā)展,薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)正得到廣泛的應(yīng)用,平板顯示器已替代了CRT顯示技術(shù),與此同時(shí)因制造工藝復(fù)雜性,在其大批量的生產(chǎn)中,缺陷產(chǎn)品不可避免的產(chǎn)生,而專門進(jìn)行液晶屏缺陷修復(fù)的廠商大多采用人工檢修的方式,效率和成本無法令人滿意,開發(fā)一套自動(dòng)化系統(tǒng)對液晶屏缺陷進(jìn)行檢測修復(fù)十分迫切。本文在研究分析LCD缺陷特征和激光修復(fù)方法的基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)開發(fā)了一套基于機(jī)器視覺技術(shù)的LCD缺陷檢測修復(fù)軟件,提高了液晶屏缺陷檢測的準(zhǔn)確性和實(shí)時(shí)性。該軟件首先通過自動(dòng)聚焦算法來調(diào)整運(yùn)動(dòng)軸至正焦高度以清晰的畫面,然后應(yīng)用缺陷檢測算法定位缺陷,隨后提示工人進(jìn)行激光修復(fù)。鐳射打線機(jī)廠家
針對液晶屏圖像特點(diǎn)改進(jìn)了以往的聚焦方法,提出一種基于模板匹配的對焦窗口選擇方法來突出前景目標(biāo),同時(shí)采集聚焦經(jīng)驗(yàn)值將調(diào)焦范圍限定到了正焦平面附近來加快聚焦。利用了宏觀檢測定位液晶缺陷子區(qū)域,然后進(jìn)行微觀檢測。對Mura缺陷采用了DCT背景重構(gòu)方法來重建背景圖像,然后使用高斯濾波、形態(tài)學(xué)處理、連通域分析來定位缺陷,經(jīng)測試該缺陷檢測算法能有效的定位Mura缺陷。后,從各個(gè)方面提高了系統(tǒng)的實(shí)時(shí)性能,包括Linux系統(tǒng)的Xenomai實(shí)時(shí)補(bǔ)丁,多線程的圖像采集與處理,圖像字塔技術(shù)。鐳射打線機(jī)廠家
有機(jī)發(fā)光顯示器OLED (Organic LED)因其具有自發(fā)光,寬視角,低成本,低功耗,可實(shí)現(xiàn)柔性顯示等特點(diǎn),被認(rèn)為是理想的下一代平板顯示技術(shù).由于制備過程較復(fù)雜,生產(chǎn)過程中難免會(huì)出現(xiàn)各類缺陷.這類缺陷具有邊界模糊,形狀不規(guī)則,周期紋理背景及整體亮度不均勻等特點(diǎn).對于OLED顯示屏的表面缺陷進(jìn)行檢測,有利于缺陷的統(tǒng)計(jì)分析,缺陷修補(bǔ)和淘汰不合格品,并通過工藝改進(jìn)而提高其制造質(zhì)量.鐳射打線機(jī)廠家
電視液晶光學(xué)器件在光束、激光偏振態(tài)和相位控制等激光束精密控制技術(shù)上具有重要的應(yīng)用潛力,但其能否在強(qiáng)激光系統(tǒng)中應(yīng)用,其中一個(gè)重要指標(biāo)是其抗激光損傷能力。本研究了連續(xù)波及脈沖體制(脈寬為10 ns)近紅外激光(波長為1064nm)對液晶光學(xué)器件功能膜層材料的損傷閾值和機(jī)理。建立了各膜層材料激光熱損傷的物理模型,并進(jìn)行了相關(guān)實(shí)驗(yàn)和數(shù)值模擬研究。 建立了激光輻照氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電薄膜的溫度場和熱應(yīng)力計(jì)算模型,計(jì)算結(jié)果表明:1064nm激光對ITO薄膜的損傷主要為熱應(yīng)力損傷;連續(xù)波激光輻照下,薄膜損傷始于薄膜與基底之間的界面處附近;脈沖激光輻照下,由于作用時(shí)間短,溫升主要發(fā)生在光斑范圍內(nèi)的膜層,薄膜從表面開始損傷。鐳射打線機(jī)廠家
實(shí)驗(yàn)研究了ITO的光電性能,測試了薄膜的吸收光譜曲線及方塊電阻;利用泵浦-探測技術(shù)研究了其激光損傷現(xiàn)象,使用1-on-1法測定了氧化銦錫薄膜的50%損傷幾率閾值;研究了不同功率密度激光輻照后薄膜方塊電阻的變化。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:薄膜越厚,方塊電阻越小,激光損傷閾值越低;薄膜未完全損傷前,方塊電阻隨激光功率密度的增大而增大。 研究了激光與PI薄膜材料的耦合機(jī)制及近紅外激光輻照對PI薄膜的損傷,其損傷機(jī)理主要是激光加熱導(dǎo)致其熱分解。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明PI薄膜對1064nm脈沖激光100%損傷幾率閾值為25 J/cm2。鐳射打線機(jī)廠家