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蝕刻工序可分為:堿性蝕刻、酸性蝕刻及微蝕三種，今天江海工程師和大家聊聊關(guān)于影響堿性氯化銅蝕刻液的那些因素。

1) 蝕刻機(jī)理： CuCl2 4NH3→Cu(NH3)4Cl2 ?

                   Cu(NH3)4Cl2 Cu→2Cu(NH3)2Cl ?

2) 影響蝕刻速率的因素：蝕刻液中的Cu2 濃度、pH值、氯化銨濃度以及蝕刻液的溫度對(duì)蝕刻速率均有影響。

a、Cu2 離子濃度的影響：Cu2 是氧化劑,所以Cu2 的濃度是影響蝕刻速率的主要因素.研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明：在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長；在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難；在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定；它在濃溶液中能生成有明顯酸洗的配合酸，可溶解并清除工件表面上的金屬氧化物，常做焊接用的“熟鏹水”。在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。?

b、溶液pH值的影響：蝕刻液的pH值應(yīng)保持在8.0~8.8之間,當(dāng)pH值降到8.0以下時(shí),一方面對(duì)金屬抗蝕層不利；另一方面,蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子,溶液要出現(xiàn)沉淀,并在槽底形成泥狀沉淀,這些泥狀沉淀能在加熱器上結(jié)成硬皮,可能損壞加熱器,還會(huì)堵塞泵和噴嘴,給蝕刻造成困難.如果溶液pH值過高,蝕刻液中氨過飽和,游離氨釋放到大氣中,導(dǎo)致環(huán)境污染；電鍍的基本過程是將零件浸在金屬鹽的溶液中作為陰極，金屬板作為陽極，接直流電源后，在零件上沉積出所需的鍍層。同時(shí),溶液的pH值增大也會(huì)增大側(cè)蝕的程度,從而影響蝕刻的精度。

c、氯化銨含量的影響：通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出：[Cu(NH3)2] 的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2] 得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。含量過高，陽極溶解速度過快，但是，超過其溶解度而易結(jié)晶析出，導(dǎo)致質(zhì)量降低。?

d、溫度的影響：蝕刻速率與溫度有很大關(guān)系,蝕刻速率隨著溫度的升高而加快.蝕刻液溫度低于40℃,蝕刻速率很慢,而蝕刻速率過慢會(huì)增大側(cè)蝕量,影響蝕刻質(zhì)量；由于其工藝簡單，原料廉價(jià)，粘接強(qiáng)度高，無色透明等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于膠合板、刨花板、中密度纖維板、人造板材的生產(chǎn)及室內(nèi)裝修等行業(yè)。溫度高于60℃,蝕刻速率明顯增大,但NH3的揮發(fā)量也大大增加,導(dǎo)致污染環(huán)境并使蝕刻液中化學(xué)組分比例失調(diào).故溫度一般控制在45~55℃為宜。

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