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高純供氣系統(tǒng)生產(chǎn)廠家給您好的建議

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-16 16:12  






特氣系統(tǒng)知識分享:標(biāo)準(zhǔn)氣體

所謂標(biāo)準(zhǔn)氣體就是用來校正測量儀器、評價(jià)測定方法、給出未知樣品氣標(biāo)準(zhǔn)值的氣體。它分為調(diào)整零位用標(biāo)準(zhǔn)氣體(零位氣體)、監(jiān)測環(huán)境用標(biāo)準(zhǔn)氣、工業(yè)分析用標(biāo)準(zhǔn)氣體、醫(yī)1療儀器用標(biāo)準(zhǔn)氣體、可燃性氣體泄漏用標(biāo)準(zhǔn)氣體、燃燒器尾氣用標(biāo)準(zhǔn)氣體六大類。由于使用了標(biāo)準(zhǔn)氣,所以即使在不同場所測定,也具有相同測定值。高純氣體的輸送管路系統(tǒng)隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高,對氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格,需要達(dá)到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0。

標(biāo)準(zhǔn)氣體應(yīng)用范圍很廣,在化工、石油冶金、機(jī)械、航天、電子、陶瓷、汽車、光纖、激光、潛水、環(huán)保、切割、焊接、食品加工等工業(yè)部門均使用大量的常用氣體和特種氣體。其中在石油化工領(lǐng)域?qū)?biāo)準(zhǔn)氣體的需求量相對較大。

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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)

針對過去使用中存在的問題,現(xiàn)代試驗(yàn)室對載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革,即 “集中供氣系統(tǒng)”,即將使用氣體(以下簡稱載氣)集中貯存,然后通過壓差的原理將氣體經(jīng)過金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點(diǎn)。其優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn):

1、首先解決氣瓶的放置問題。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗(yàn)室相對獨(dú)立的房間,如果與試驗(yàn)室在同一大樓內(nèi),則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨(dú)立的房間,這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離,即使有害氣體有泄漏,也不會發(fā)生直接傷害。易1燃易1爆氣體:此類氣體只要形成了可燃?xì)怏w爆1炸混合氣和達(dá)到著火溫度。

2、其次氣體混合的問題。將所有載氣氣瓶根據(jù)氣體性質(zhì)分別集中在一個(gè)氣瓶間中與助燃?xì)怏w分開存貯。

3、再次是解決氣瓶壓力的問題。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。因?yàn)闅馄块g是相對獨(dú)立的,整個(gè)氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處,因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險(xiǎn)縮小至氣瓶間內(nèi),可對人體及儀器的傷害可降到1低。電子特氣系統(tǒng)的維護(hù)由于特氣系統(tǒng)是一種具有高風(fēng)險(xiǎn)的供應(yīng)系統(tǒng),因此在生產(chǎn)線現(xiàn)場的維護(hù)需要專業(yè)、有經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)員完成。



小流量氣體凈化系統(tǒng)

高純供氣系統(tǒng)主要應(yīng)用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發(fā)生器等的高純連續(xù)供氣,應(yīng)用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質(zhì)譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點(diǎn)氣,也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體,更可以為半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供超高純的工藝氣體。實(shí)驗(yàn)室氣體管道設(shè)計(jì)要求了解實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)的都知道:實(shí)驗(yàn)室的任何的設(shè)計(jì)都是有規(guī)格要求的,出了這個(gè)要求的范圍那么實(shí)驗(yàn)室的設(shè)計(jì)就有漏洞,就不合格,就容易發(fā)生事故。

氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑,電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件,出氣口配置微米過濾器,其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。

氣體配比儀采用質(zhì)量流量計(jì),電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件,雙卡套或者VCR氣體接頭。



高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高,對氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格,需要達(dá)到ppb、ppt級,塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。漏率(漏氣速率):是指單位時(shí)間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量。



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