研磨分為手工研磨和機(jī)械研磨。手工研磨平面時(shí)，研磨劑涂在研磨平板(研具)上，手持工件作直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)或“8”字形運(yùn)動(dòng)。研磨一定時(shí)間后，將工件調(diào)轉(zhuǎn)90°～180°，以防工件傾斜。對(duì)于工件上局部待研的面、方孔、窄縫等表面，也可手持研具進(jìn)行研磨。批量較大的簡單零件上的平面亦可在平面研磨機(jī)上研磨。研磨平面研磨凹槽。

研磨平面的說明：研磨平面一般在精磨之后進(jìn)行。平面研磨是在非常平整的研磨平板上進(jìn)行的。粗研磨在有槽平板上進(jìn)行，精研磨在光滑平板上進(jìn)行。先在平板或工件上涂上適當(dāng)?shù)难心賹⒋心ッ尜N合在研板上，以“8”字形或螺旋形和直線運(yùn)動(dòng)相結(jié)合的方式進(jìn)行研磨，并不斷變更工件的運(yùn)動(dòng)方向，直至達(dá)到精度要求。在研磨狹窄平面時(shí)，可用V形鐵作依靠進(jìn)行研磨，采用直線研磨運(yùn)動(dòng)軌跡?？刂坪醚心ニ俣群蛪毫Γ话阈〉挠补ぜ虼盅心タ捎幂^大的壓力，而大工件或精研磨可用較小的壓力。

盡管研磨已廣泛應(yīng)用于機(jī)械加工中，并且獲得了較佳的工藝效果,但人們對(duì)研磨過程的機(jī)理有多種觀點(diǎn)。純切削說這種觀點(diǎn)認(rèn)為:研磨和磨削一樣，是一種純切削過程。精度的獲得是由很多微小的硬磨粒對(duì)工件表面不斷切削，靠磨粒的尖劈、沖擊、刮削和擠壓作用,形成無數(shù)條切痕重疊、互相交錯(cuò)、互相抵消的加工面。它與磨削的差別只是磨粒顆粒較細(xì)，切削運(yùn)動(dòng)不盡相同而已。這種觀點(diǎn)在實(shí)際過程中可以解釋許多現(xiàn)象，也能指導(dǎo)工作。例如，研磨過程中使用的磨料粒度一序比一序細(xì)，而獲得的精度則一序比一序高。但這種觀點(diǎn)解釋不了用軟磨料加工硬材料，用大顆粒磨粒卻能加工出低粗糙度表面的實(shí)例，顯然這種觀點(diǎn)不。

平面研磨過程

裝有擊釘端面的夾具與研磨盤表面很好的貼合在一起，夾具沿貼合表面研磨盤作自轉(zhuǎn)的研磨運(yùn)動(dòng)。裝有擊釘端面的夾具和研磨盤表面間放有研磨液，當(dāng)夾具與研磨盤表面作相對(duì)公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)時(shí)，研磨液中的部分磨粒在夾具和研磨盤表面間滑動(dòng)或者滾動(dòng)，切去密封圈表面上很薄的一層金屬。密封圈表面上表面上凸峰部分首先被磨去，然后漸漸的達(dá)到要求的幾何形狀。

平面研磨運(yùn)動(dòng)

擊釘端面的夾具與研磨盤相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)，擊釘端面表面上每一點(diǎn)對(duì)研磨盤的相對(duì)滑動(dòng)路程都應(yīng)該相同。并且，相對(duì)運(yùn)動(dòng)的方向應(yīng)不斷變更。運(yùn)動(dòng)方向的不斷變化使每一磨粒不會(huì)在密封圈表面上重復(fù)自己運(yùn)動(dòng)的軌跡，以免造成明顯的劃痕而增擊釘端面表面的粗糙度。此外，運(yùn)動(dòng)方向的不斷變化還能使研磨液分布得比較均勻，從而較均勻的切去擊釘端面表面的不平整表皮。