金屬首飾真空鍍膜機特點：

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時，優(yōu)化陰極和磁場結(jié)構(gòu)涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴散，再加上離子束輔助功能沉積。

應(yīng)用行業(yè)：設(shè)備被廣泛應(yīng)用于IPG的時鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備TiN，TiCN涂層，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化鋯，各類鉆石薄膜（DLC）。

金屬帶鍍膜設(shè)備

HCMRC系列采用模塊化設(shè)計，是用于薄膜鍍膜的靈活生產(chǎn)工具。通過我們各種技術(shù)的獨特組合，可以生產(chǎn)高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應(yīng)用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設(shè)備采用公司新開發(fā)的磁控濺射鍍膜技術(shù)、陰極電弧離子鍍膜技術(shù)及獨特設(shè)計的離子源輔助沉積鍍膜技術(shù)等多種技術(shù)組合，成功應(yīng)用在大卷徑寬幅高真空連續(xù)卷繞鍍膜設(shè)備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴展應(yīng)用范圍。

模塊化設(shè)計概念，帶材糾偏系統(tǒng)、等離子體預(yù)處理、磁控濺射系統(tǒng)、在線測量和工藝控制系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的良好選擇。

真空鍍膜機酸洗應(yīng)該注意什么

酸洗設(shè)備應(yīng)在通風設(shè)備上進行，并戴上橡膠手套。把零件到清洗槽內(nèi)的酸或堿，要悄悄的，真空鍍膜機無磕碰和飛濺。此外，常用的酸洗槽盆應(yīng)加蓋。后，完成了這項作業(yè)，應(yīng)切斷水。

安全標準：真空體系，真空體系，高溫真空泵油加體系的運用，真空鍍膜機稍有不小心燃燒的風險，所以在作業(yè)的過程中，有必要嚴厲操作過程中裝置和操作標準，要穩(wěn)重，熱泵經(jīng)歷人是風險的，旋轉(zhuǎn)部件也許損傷人的風險，所以要注意在生產(chǎn)過程中不行挨近的增壓泵和擴散泵，滑閥泵與羅茨泵的手術(shù)前護罩有必要是完好的，人不行近。真空鍍膜機的設(shè)備卷繞體系也許是風險的損傷在操作過程中的人，真空鍍膜機所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快，不超越30米/分鐘，速度不超越10米/分鐘的影片。