真空鍍膜設(shè)備背壓檢漏法

背壓檢漏法是一種充壓檢漏與真空檢漏相結(jié)合的方法，真空鍍膜設(shè)備中多用于封離后的電子器件、半導(dǎo)體器件等密封件的無(wú)損檢漏技術(shù)中。

其檢漏過(guò)程基本上可分為充壓、凈化和檢漏三個(gè)步驟。

(1)充壓過(guò)程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內(nèi)存放一定時(shí)間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢件的內(nèi)部，并且將隨浸泡時(shí)間的增加和充氣壓力的升高，被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力也必然會(huì)逐漸升高。

(2)凈化過(guò)程是采用干燥氮?dú)饬骰蚋稍锟諝饬髟诔鋲喝萜魍獠炕蛟谄鋬?nèi)部噴吹被檢件。

如不具備氣源時(shí)也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。

在凈化過(guò)程中，因?yàn)橛幸徊糠謿怏w必然會(huì)從被檢件內(nèi)部經(jīng)漏孔流失，從而導(dǎo)致被檢件內(nèi)部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時(shí)間越長(zhǎng)，示漏氣體的分壓降就越大。

(3)檢漏過(guò)程則是將凈化后的被檢件放入真空室內(nèi)，將檢漏儀與真空室相連接后進(jìn)行檢漏。

抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過(guò)漏孔從被檢件內(nèi)部流出，然后再經(jīng)過(guò)真空室進(jìn)入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

真空鍍膜過(guò)程的對(duì)于濺射類鍍膜到底多重要？

可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。

對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否精準(zhǔn)控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問(wèn)題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

什么是真空鍍膜設(shè)備的虛漏及漏孔？

一、虛漏：

虛漏是由于設(shè)計(jì)或制造加工工藝不當(dāng)，在真空鍍膜設(shè)備內(nèi)形成貯存氣源的洞穴，這些氣體在真空環(huán)境下慢慢釋放出來(lái)，形同漏氣，簡(jiǎn)稱虛漏。

例如，真空鍍膜設(shè)備內(nèi)的緊固螺釘沒(méi)有出氣孔，焊縫交叉設(shè)計(jì)，焊接不完善留有孔穴等都會(huì)造成虛漏現(xiàn)象。

二、漏孔：

漏孔是真空鍍膜設(shè)備內(nèi)的電真空器件中直徑微米數(shù)量級(jí)的小漏孔，空氣中的塵?；蛞后w都很容易造成漏孔的堵塞，這些就算你當(dāng)時(shí)修理好了也是暫時(shí)性的，檢漏時(shí)好像不漏，但經(jīng)過(guò)抽氣之后，又會(huì)出現(xiàn)漏氣。

所以為了檢查，一定要仔細(xì)處理好檢漏部位，盡量不用手去摸被檢測(cè)區(qū)域，避免塵?；蛴椭氯┛?。

真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)和濕式鍍膜技術(shù)

隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)成為了各行各業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量的手段，真空鍍膜所需費(fèi)用較低經(jīng)濟(jì)效益顯著讓越來(lái)越多的企業(yè)躍躍欲試，我國(guó)生產(chǎn)的真空鍍膜機(jī)已經(jīng)達(dá)到了相當(dāng)水平，可以鍍制的真空鍍膜材料也越來(lái)越多，但和國(guó)外的設(shè)備對(duì)比也存在著一點(diǎn)差距，對(duì)于真空技術(shù)的研發(fā)有待提高。

真空鍍膜技術(shù)的膜材選材廣泛，可以控制膜的厚度并鍍制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具備許多新的化學(xué)和物理性能。濕式鍍膜技術(shù)是過(guò)去的一種鍍膜方式，即化學(xué)鍍或者電鍍，是應(yīng)用化學(xué)還原的原理沉積在材料上，這種方法會(huì)產(chǎn)生廢液污染環(huán)境，以往很多電鍍?cè)O(shè)備廠因?yàn)槲廴締?wèn)題紛紛轉(zhuǎn)變鍍膜工藝。

真空鍍膜技術(shù)鍍制的薄膜，膜層不易受到污染，在真空環(huán)境中可以提高純度和致密性，不產(chǎn)生廢液不污染環(huán)境。真空鍍膜本身污染，但是實(shí)際鍍制中會(huì)用到有機(jī)涂料，所以也會(huì)產(chǎn)生污染，然而相比濕式電鍍技術(shù)，污染小很多，真空鍍膜技術(shù)生產(chǎn)具有很強(qiáng)的生命力，但也不是說(shuō)真空鍍膜技術(shù)就可以完全取代傳統(tǒng)的濕式鍍膜技術(shù)了，在膜層的厚度，耐老化上濕式鍍膜法仍然占據(jù)優(yōu)勢(shì)，真空鍍膜鍍制的膜層比較薄。

另外，牢固的膜層是受工藝和附著力所影響，不管是真空鍍膜技術(shù)還是濕式鍍膜技術(shù)，如果材料表面沒(méi)有清潔干凈都會(huì)影響膜層和材料的結(jié)合。